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J-GLOBAL ID：201802298420272243   整理番号：18A1326367

Mg/Nb複合薄膜の構造制御及び脱水素温度への影響【JST・京大機械翻訳】

Effects of Structural Tuning on the Dehydrogenation Temperatures of Mg/Nb Composite Films

著者 (4件)： Huang Wencheng (華南理工大学材料科学与工程学院,广州510640;广東省先進儲能材料重点実験室,广州510640) ,  Zhang Jinguo (華南理工大学材料科学与工程学院,广州510640;广東省先進儲能材料重点実験室,广州510640) ,  Yuan Jun (華南理工大学材料科学与工程学院,广州510640;广東省先進儲能材料重点実験室,广州510640) ,  Liu Jiangwen (華南理工大学材料科学与工程学院,广州510640;广東省先進儲能材料重点実験室,广州510640)
資料名： Cailiao Daobao  (Cailiao Daobao)
巻： 32  号： 7  ページ： 1084-1087,1093  発行年： 2018年 
JST資料番号： C2126A  ISSN： 1005-023X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： Mg/Nb複合フィルムをマグネトロンスパッタリングにより調製し,Mg/Nb複合薄膜の脱水素温度に及ぼすNb層厚さと基板温度の影響を調べた。その結果,Nb層厚が1nmと2nmのとき,Mg/Nb複合膜の脱水素温度は,それぞれ,110°Cと122°Cに低下することが分かった。基板温度が125°Cのとき,脱水素性能の改善効果は最良であり,Mg(100nm)/Nb(1nm)複合膜の脱水素温度は100°Cに低下する。同時に、Nb層厚さと基板温度がMg/Nb複合薄膜の脱水素温度に与える影響メカニズムについて議論した。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *マグネシウム ,  マグネトロンスパッタリング ,  層厚 ,  *脱水素 ,  複合フィルム ,  基板温度 ,  *薄膜 ,  *ニオブ ,  複合膜
準シソーラス用語： 改善効果 ,  構造制御 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Mg/Nb composite film ,  hydrogen storage ,  Nb ,  substrate temperature ,  dehydrogenation

分類 (2件)： 塩  (CD01050V) ,  気体燃料の輸送,供給,貯蔵  (YE02060M)

タイトルに関連する用語 (5件)： Mg ,  Nb ,  薄膜 ,  構造制御 ,  脱水素