特許
J-GLOBAL ID:201803000105352510

窒化ケイ素焼結体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人深見特許事務所
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2016070928
公開番号(公開出願番号):WO2017-014169
出願日: 2016年07月15日
公開日(公表日): 2017年01月26日
要約:
窒化ケイ素焼結体は、窒化ケイ素、イットリウム、マグネシウムおよび酸素を含む窒化ケイ素焼結体であり、窒化ケイ素焼結体に含まれる複数の窒化ケイ素結晶粒子は、短軸粒径が1.7μm以上10.5μm以下であり、短軸粒径に対する長軸粒径の比であるアスペクト比が2.0以上7.7以下である。これにより、半導体デバイスの基板などに好適に用いることができる、高い熱伝導率を有する窒化ケイ素焼結体が提供される。
請求項(抜粋):
窒化ケイ素、イットリウム、マグネシウムおよび酸素を含む窒化ケイ素焼結体であり、 前記窒化ケイ素焼結体に含まれる複数の窒化ケイ素結晶粒子は、短軸粒径が1.7μm以上10.5μm以下であり、前記短軸粒径に対する長軸粒径の比であるアスペクト比が2.0以上7.7以下である、窒化ケイ素焼結体。
IPC (2件):
C04B 35/584 ,  C04B 35/593
FI (2件):
C04B35/584 ,  C04B35/593 500

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