特許
J-GLOBAL ID:201803000219427498
感光性エレメント、積層体、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
長谷川 芳樹
, 清水 義憲
, 平野 裕之
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2016070163
公開番号(公開出願番号):WO2017-007001
出願日: 2016年07月07日
公開日(公表日): 2017年01月12日
要約:
微小な抜けが少ないレジストパターンを形成できる感光性エレメントの提供を目的とし、支持フィルムと、中間層と、感光層とをこの順で備える感光性エレメントであって、上記支持フィルムの厚みが20μm以上であり、該支持フィルムに含まれる直径5μm以上の粒子の数が30個/mm2以下である、感光性エレメントを提供する。
請求項(抜粋):
支持フィルムと、中間層と、感光層とをこの順で備える感光性エレメントであって、前記支持フィルムの厚みが20μm以上であり、該支持フィルムに含まれる直径5μm以上の粒子の数が30個/mm2以下である、感光性エレメント。
IPC (5件):
G03F 7/11
, G03F 7/004
, G03F 7/09
, H05K 3/06
, H05K 3/18
FI (6件):
G03F7/11 503
, G03F7/004 512
, G03F7/11 502
, G03F7/09 501
, H05K3/06 J
, H05K3/18 D
Fターム (69件):
2H225AC34
, 2H225AC36
, 2H225AC63
, 2H225AC64
, 2H225AD14
, 2H225AD24
, 2H225AM10N
, 2H225AM13N
, 2H225AM13P
, 2H225AM22N
, 2H225AM22P
, 2H225AM23N
, 2H225AM23P
, 2H225AM32N
, 2H225AM32P
, 2H225AM53N
, 2H225AM58N
, 2H225AM86N
, 2H225AN10N
, 2H225AN10P
, 2H225AN12N
, 2H225AN12P
, 2H225AN23P
, 2H225AN35N
, 2H225AN35P
, 2H225AN47N
, 2H225AN47P
, 2H225AN60N
, 2H225AN66P
, 2H225AP01N
, 2H225BA01N
, 2H225BA02N
, 2H225BA02P
, 2H225BA09P
, 2H225BA17P
, 2H225BA18P
, 2H225BA33N
, 2H225CA13
, 2H225CB05
, 2H225CC01
, 2H225CC13
, 2H225DA22
, 2H225DA26
, 5E339BC02
, 5E339BD03
, 5E339BD08
, 5E339BD11
, 5E339BE13
, 5E339CC01
, 5E339CE11
, 5E339CE12
, 5E339CE16
, 5E339CF01
, 5E339CF16
, 5E339CF17
, 5E339CG04
, 5E339DD02
, 5E339GG02
, 5E343AA22
, 5E343BB24
, 5E343BB52
, 5E343BB67
, 5E343CC62
, 5E343DD33
, 5E343DD43
, 5E343DD76
, 5E343ER16
, 5E343ER18
, 5E343GG08
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