特許
J-GLOBAL ID:201803000219427498

感光性エレメント、積層体、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 長谷川 芳樹 ,  清水 義憲 ,  平野 裕之
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2016070163
公開番号(公開出願番号):WO2017-007001
出願日: 2016年07月07日
公開日(公表日): 2017年01月12日
要約:
微小な抜けが少ないレジストパターンを形成できる感光性エレメントの提供を目的とし、支持フィルムと、中間層と、感光層とをこの順で備える感光性エレメントであって、上記支持フィルムの厚みが20μm以上であり、該支持フィルムに含まれる直径5μm以上の粒子の数が30個/mm2以下である、感光性エレメントを提供する。
請求項(抜粋):
支持フィルムと、中間層と、感光層とをこの順で備える感光性エレメントであって、前記支持フィルムの厚みが20μm以上であり、該支持フィルムに含まれる直径5μm以上の粒子の数が30個/mm2以下である、感光性エレメント。
IPC (5件):
G03F 7/11 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/09 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18
FI (6件):
G03F7/11 503 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/11 502 ,  G03F7/09 501 ,  H05K3/06 J ,  H05K3/18 D
Fターム (69件):
2H225AC34 ,  2H225AC36 ,  2H225AC63 ,  2H225AC64 ,  2H225AD14 ,  2H225AD24 ,  2H225AM10N ,  2H225AM13N ,  2H225AM13P ,  2H225AM22N ,  2H225AM22P ,  2H225AM23N ,  2H225AM23P ,  2H225AM32N ,  2H225AM32P ,  2H225AM53N ,  2H225AM58N ,  2H225AM86N ,  2H225AN10N ,  2H225AN10P ,  2H225AN12N ,  2H225AN12P ,  2H225AN23P ,  2H225AN35N ,  2H225AN35P ,  2H225AN47N ,  2H225AN47P ,  2H225AN60N ,  2H225AN66P ,  2H225AP01N ,  2H225BA01N ,  2H225BA02N ,  2H225BA02P ,  2H225BA09P ,  2H225BA17P ,  2H225BA18P ,  2H225BA33N ,  2H225CA13 ,  2H225CB05 ,  2H225CC01 ,  2H225CC13 ,  2H225DA22 ,  2H225DA26 ,  5E339BC02 ,  5E339BD03 ,  5E339BD08 ,  5E339BD11 ,  5E339BE13 ,  5E339CC01 ,  5E339CE11 ,  5E339CE12 ,  5E339CE16 ,  5E339CF01 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339CG04 ,  5E339DD02 ,  5E339GG02 ,  5E343AA22 ,  5E343BB24 ,  5E343BB52 ,  5E343BB67 ,  5E343CC62 ,  5E343DD33 ,  5E343DD43 ,  5E343DD76 ,  5E343ER16 ,  5E343ER18 ,  5E343GG08

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