特許

J-GLOBAL ID：201803001070561745

感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び酸拡散制御剤

発明者： 木下 奈津子
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 天野 一規
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016088799
公開番号（公開出願番号）：WO2017-122528
出願日： 2016年12月26日
公開日（公表日）： 2017年07月20日
要約：

本発明は、酸解離性基を含む第1構造単位を有する第1重合体と、感放射線性酸発生体と、放射線の照射により分子内で構造が変化して塩形成を行いうる第1化合物とを含有する感放射線性樹脂組成物である。上記第1化合物は、放射線の照射により塩基性が変化する化合物であることが好ましい。上記第1化合物は、放射線の照射により酸を発生する化合物であることが好ましい。上記第1化合物は下記式(1)で表されることが好ましい。下記式(1)中、Ar1は、少なくとも1個の窒素原子を環構成原子として含む置換若しくは非置換の環員数4〜30のヘテロアレーンジイル基である。

請求項（抜粋）：

酸解離性基を含む第1構造単位を有する第1重合体と、 感放射線性酸発生体と、 放射線の照射により分子内で構造が変化して塩形成を行いうる第1化合物と を含有する感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/20

FI (5件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/20 521

Fターム (73件)：

2H197AA09 ,  2H197AA12 ,  2H197BA17 ,  2H197CA02 ,  2H197CA03 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CE01 ,  2H197CE10 ,  2H197DB29 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H197JA24 ,  2H225AF24P ,  2H225AF33P ,  2H225AF35P ,  2H225AF52P ,  2H225AF53P ,  2H225AF54P ,  2H225AF62P ,  2H225AF63P ,  2H225AF66P ,  2H225AF67P ,  2H225AF68P ,  2H225AF69P ,  2H225AF71P ,  2H225AF75P ,  2H225AF92P ,  2H225AF99P ,  2H225AH03 ,  2H225AH14 ,  2H225AH15 ,  2H225AH16 ,  2H225AH17 ,  2H225AH19 ,  2H225AH33 ,  2H225AH36 ,  2H225AH38 ,  2H225AH41 ,  2H225AH49 ,  2H225AH50 ,  2H225AJ13 ,  2H225AJ48 ,  2H225AJ53 ,  2H225AJ54 ,  2H225AJ55 ,  2H225AJ58 ,  2H225AJ59 ,  2H225AL03 ,  2H225AL27 ,  2H225AN30P ,  2H225AN39P ,  2H225AN42P ,  2H225AN50P ,  2H225AN54P ,  2H225AN56P ,  2H225AN62P ,  2H225AN65P ,  2H225AN74P ,  2H225AN86P ,  2H225BA01P ,  2H225BA02P ,  2H225BA26P ,  2H225CA12 ,  2H225CB08 ,  2H225CB10 ,  2H225CB18 ,  2H225CC01 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  2H225CD05