特許
J-GLOBAL ID：201803001446460767

包装容器を電子ビームで照射するための装置および方法

発明者：
ホカン・メルビン

ホカン・メルビン について

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ドミニク・クロエッタ

ドミニク・クロエッタ について

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フレドリク・ハンセン

フレドリク・ハンセン について

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ハンス・ハルスタディウス

ハンス・ハルスタディウス について


出願人/特許権者：
テトラ ラバル ホールディングス アンド ファイナンス エス エイ

テトラ ラバル ホールディングス アンド ファイナンス エス エイ について


代理人 (3件)： 村山 靖彦 ,  実広 信哉 ,  阿部 達彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-544479
特許番号：特許第6240211号
出願日： 2013年11月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 対象物(12)を電子ビーム(16)で照射するための照射装置(36)であって、 前記電子ビーム(16)が通って放射される電子射出窓(20)を有する少なくとも1つの電子ビーム放射源(10)と、 少なくとも前記電子ビーム(16)の第1の線量制御パラメータを測定するための少なくとも1つのセンサデバイス(56)とを備え、 前記センサデバイスが、 少なくとも前記電子ビームに一時的に暴露されるように適合されたプレート(74)の形態の感知領域(58)であって、前記プレート(74)が、前記電子ビーム(16)の電子(e-)が衝突したときX線(76)を発生するようにさらに適合されている感知領域(58)と、 前記発生されたX線(76)を検出するように適合された少なくとも1つのX線撮像センサ(70)とを備え、 前記センサデバイス(56)が、前記少なくとも1つのX線撮像センサ(70)からの情報を処理するために線量処理モジュール(60)に接続され、 前記線量処理モジュール(60)において、前記第1の線量制御パラメータが、前記電子ビーム放射源(10)に供給された電流および電圧と、前記センサデバイス(56)に対する前記電子ビーム放射源(10)の位置とを含んでいる第2の線量制御パラメータとともに処理され、 前記線量処理モジュール(60)が、測定された前記第1の線量制御パラメータが許容できる事前設定の線量制御パラメータの範囲内にないとき、信号を供給するように適合されている、照射装置(36)。
IPC (5件)：
G21K 5/04 ( 200 6.01) ,  G01T 1/29 ( 200 6.01) ,  B65B 55/04 ( 200 6.01) ,  B65B 55/08 ( 200 6.01) ,  A61L 2/08 ( 200 6.01)
FI (9件)：
G21K 5/04 C ,  G21K 5/04 E ,  G01T 1/29 B ,  B65B 55/04 B ,  B65B 55/04 C ,  B65B 55/04 K ,  B65B 55/04 M ,  B65B 55/08 B ,  A61L 2/08 108
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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