特許

J-GLOBAL ID：201803001596640658

ポジ型感光性シロキサン組成物、アクティブマトリクス基板、表示装置、及びアクティブマトリクス基板の製造方法

発明者： 野寺 伸武 ,  篠塚 章宏 ,  小岩 真司 ,  加藤 真裕 ,  松本 隆夫 ,  福家 崇司 ,  横山 大志 ,  谷口 克人
出願人/特許権者： 堺ディスプレイプロダクト株式会社 ,  アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ
代理人 (2件)： 河野 英仁 ,  河野 登夫
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016053261
公開番号（公開出願番号）：WO2016-125836
出願日： 2016年02月03日
公開日（公表日）： 2016年08月11日
要約：

形成される膜が高耐熱性、高強度、及び高クラック耐性を有するポジ型感光性シロキサン組成物、副生成物が生じず、不良の発生が抑制され、容易に安価に層間絶縁膜が形成され、透過率が良好であるアクティブマトリクス基板、該アクティブマトリクス基板を備える表示装置、並びに該アクティブマトリクス基板の製造方法を提供する。 アクティブマトリクス基板30は、絶縁基板10上に、互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート配線11と、各ゲート配線11と交叉する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース配線12とを有する。ソース配線12の下側の、ゲート配線11とソース配線12との交叉部分を含む部分に、層間絶縁膜14及びゲート絶縁膜15が介在している。層間絶縁膜14はポジ型感光性シロキサン組成物を用い、レジストを使用せずに形成される。

請求項（抜粋）：

(I)テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)水溶液に対する溶解速度が異なる少なくとも2種類以上のポリシロキサン、(II)ジアゾナフトキノン誘導体、(III)光酸発生剤、及び(IV)溶剤を含有するポジ型感光性シロキサン組成物であって、 前記ポリシロキサン(I)が、 (A)下記一般式(1): R1 nSi(OR2 )4-n

IPC (3件)：

G03F 7/075 ,  G03F 7/023 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

G03F7/075 521 ,  G03F7/023 ,  G03F7/20 501

Fターム (24件)：

2H197AA05 ,  2H197AB16 ,  2H197CA02 ,  2H197CA03 ,  2H197CA05 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CE10 ,  2H197HA05 ,  2H197JA15 ,  2H197JA21 ,  2H197JA30 ,  2H225AF05P ,  2H225AF23P ,  2H225AF79P ,  2H225AM85P ,  2H225AN39P ,  2H225AN54P ,  2H225BA01P ,  2H225BA33P ,  2H225CA21 ,  2H225CB02 ,  2H225CC03 ,  2H225CC21