特許
J-GLOBAL ID：201803001650448270
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-145514
公開番号（公開出願番号）：特開2015-018955
特許番号：特許第6291177号
出願日： 2013年07月11日
公開日（公表日）： 2015年01月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】薬液により基板に薬液処理を行う薬液処理部と、
前記薬液処理部に洗浄処理を行う洗浄処理部と、
前記薬液処理部および前記洗浄処理部を制御するように構成された制御部とを備え、
前記薬液処理部は、
薬液を貯留するように構成された薬液貯留部と、
薬液を吐出するように構成された吐出ノズルと、
前記薬液貯留部に貯留される薬液を前記吐出ノズルに導くための第1の配管と、
前記第1の配管に設けられ、前記薬液貯留部に貯留される薬液を前記第1の配管を通して前記吐出ノズルに供給するように構成された供給装置と、
前記供給装置より下流側における前記第1の配管の部分に設けられ、前記第1の配管内の流路を開閉可能に構成された流路開閉部と、
前記供給装置の下流側であって前記流路開閉部の上流側における前記第1の配管の部分に設けられたフィルタとを含み、
前記洗浄処理部は、
洗浄液を前記第1の配管に導くための第2の配管と、
気体を前記第1の配管に導くための第3の配管と、
薬液、洗浄液および気体が選択的に前記第1の配管の予め定められた流路範囲に導かれかつ洗浄液が前記フィルタを通らないように前記第1、第2および第3の配管内の流路を切替可能に構成された切替部とを含み、
前記流路開閉部は、前記流路範囲内に設けられ、
前記制御部は、前記薬液処理部における薬液処理が停止された後であって薬液処理が再開される前に、洗浄液および気体が交互にかつ複数回にわたって前記流路範囲に導かれ、かつ洗浄液が前記流路開閉部に導かれる状態で前記流路開閉部が連続的に開閉されるように前記切替部および前記流路開閉部を制御する、基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B08B 3/08 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
, G03F 7/16 ( 200 6.01)
H01L 21/30 564 C
, B08B 3/08 A
, H01L 21/304 648 K
, H01L 21/304 643 A
, G03F 7/16 501
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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