特許
J-GLOBAL ID：201803001703610813
マスクパターン作成方法、光学像の計算方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
阿部 琢磨
, 黒岩 創吾
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-234253
公開番号（公開出願番号）：特開2015-094856
特許番号：特許第6238687号
出願日： 2013年11月12日
公開日（公表日）： 2015年05月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 マスクを照明光学系で照明し、投影光学系を介して前記マスクのパターンの像を基板上に投影するために使用する前記マスクのパターンをコンピュータを用いて作成する作成方法において、
前記投影光学系の物体面におけるパターンを設定するステップと、
前記投影光学系の瞳面における複数の点光源のそれぞれについて、前記瞳面の座標における前記点光源の位置に応じて前記投影光学系の瞳を示す瞳関数をずらすことによって、該ずらされた複数の瞳関数を生成する生成ステップと、
該生成された前記複数の瞳関数を含む行列を定義する定義ステップと、
前記行列の成分のうち前記瞳面の座標の原点における各々の前記瞳関数の値を成分に含むベクトルを転置して複素共役にしたベクトルを生成し、生成されたベクトルと前記行列との積のフーリエ変換と前記物体面におけるパターンとの畳み込み積分を行って、前記物体面におけるパターンの像を計算するステップと、
該計算された像を用いて前記物体面におけるパターンの補助パターンを生成し、前記物体面におけるパターンと前記補助パターンを含むマスクのパターンを作成するステップとを備えることを特徴とする作成方法。
IPC (2件)：
G03F 1/36 ( 201 2.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
G03F 1/36
, G03F 7/20 521
