特許

J-GLOBAL ID：201803002077841308

水分濃度測定方法およびその装置

発明者： 西田 耕介 ,  川崎 昌博 ,  梅川 豊文 ,  本田 真一
出願人/特許権者： 国立大学法人京都工芸繊維大学 ,  川崎 昌博 ,  株式会社プラムテック ,  神栄テクノロジー株式会社
代理人 (1件)： 福井 豊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-255697
公開番号（公開出願番号）：特開2018-105833
出願日： 2016年12月28日
公開日（公表日）： 2018年07月05日
要約：

【課題】 高濃度の水分を迅速かつ精度よく測定する。【解決手段】本発明は、波長変調分光法を用い、受光装置より得られた吸収波形から、ロックインアンプ等の波形演算手段でその2p次微分波のピーク値(2pf)と2q次微分波のピーク値(2qf)(p、qは整数、p 請求項（抜粋）：

波長変調分光法において得られた吸収波形から、2p次微分波のピーク値(2pf)と2q次微分波のピーク値(2qf)(p、qは正の整数、p IPC (3件)：

G01N 21/39 ,  G01N 21/355 ,  G01J 3/433

FI (3件)：

G01N21/39 ,  G01N21/3554 ,  G01J3/433

Fターム (31件)：

2G020AA03 ,  2G020BA02 ,  2G020BA12 ,  2G020CA02 ,  2G020CB23 ,  2G020CB42 ,  2G020CB53 ,  2G020CC56 ,  2G020CD03 ,  2G020CD22 ,  2G020CD36 ,  2G020CD37 ,  2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059BB15 ,  2G059CC09 ,  2G059EE01 ,  2G059EE12 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG09 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059KK01 ,  2G059KK10 ,  2G059MM01 ,  2G059MM04 ,  2G059MM10 ,  2G059MM12 ,  2G059NN02 ,  2G059NN04

引用特許：

出願人引用 (5件)

• ガス計測装置およびガス計測装置における状態量の測定方法。
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-286895   出願人：株式会社堀場製作所
• 内部の水分レベルを制御するための半導体処理装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-306348   出願人：レール・リキード-ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
• 吸光度検出器,クロマトグラフ装置,吸光度検出方法、及びクロマトグラフ分析方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-255811   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭62-228142
  
• 特表平7-506429