特許
J-GLOBAL ID:201803002269262050
SiC単結晶製造装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (5件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 関根 宣夫
, 河野上 正晴
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-185377
公開番号(公開出願番号):特開2018-048048
出願日: 2016年09月23日
公開日(公表日): 2018年03月29日
要約:
【課題】溶液法によるSiC単結晶の製造中に、高温のSi-C溶液をサンプリングすることができるサンプリング部材を備えたSiC単結晶製造装置を提供する。【解決手段】Si-C溶液を収容する坩堝と、坩堝の周囲に配置された加熱装置と、SiC種結晶基板を保持するための昇降可能な種結晶保持軸と、を備えた、溶液法によりSiC単結晶を成長させるためのSiC単結晶製造装置であって、鉛直方向に移動可能であり且つTa製、Mo製またはW製の、Si-C溶液サンプリング部材を備える、SiC単結晶製造装置。【選択図】図4
請求項(抜粋):
Si-C溶液を収容する坩堝と、
前記坩堝の周囲に配置された加熱装置と、
SiC種結晶基板を保持するための昇降可能な種結晶保持軸と、
を備えた、溶液法によりSiC単結晶を成長させるためのSiC単結晶製造装置であって、
鉛直方向に移動可能であり且つTa製、Mo製またはW製の、Si-C溶液サンプリング部材を備える、
SiC単結晶製造装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (7件):
4G077AA02
, 4G077BE08
, 4G077CC04
, 4G077CC10
, 4G077ED06
, 4G077LA01
, 4G077LA03
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