レーザ装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：赤澤一博 , 宮澤岳志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-201065
公開番号（公開出願番号）：特開2018-061973
出願日： 2016年10月12日
公開日（公表日）： 2018年04月19日
要約：

【課題】所望のタイミングで所望の出力に調整された高出力のパルスレーザをアプリケーション用の機器に供給できるレーザ装置を実現する。【解決手段】第一のレーザ光L1を入射させてこれを透過光L11と反射光L12とに分割するとともに、第二のレーザ光L2を第一のレーザ光L1とは異なる方向から入射させてこれを第一のレーザ光L1の反射光L12に重畳する透過光L21と第一のレーザ光L1の透過光L11に重畳する反射光L22とに分割するビームスプリッタ6と、ビームスプリッタ6よりも行路の上流側にあって第一のレーザ光L1と前記第二のレーザ光L2との位相差を変化させることのできる位相変調器41、42とを具備するレーザ装置を構成した。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

レーザ加工機その他のレーザ光を利用する機器にレーザ光を供給するためのレーザ装置であって、第一のレーザ光を入射させてこれを透過光と反射光とに分割するとともに、第二のレーザ光を第一のレーザ光とは異なる方向から入射させてこれを第一のレーザ光の反射光に重畳する透過光と第一のレーザ光の透過光に重畳する反射光とに分割するビームスプリッタと、前記ビームスプリッタよりも行路の上流側にあって前記第一のレーザ光と前記第二のレーザ光との位相差を変化させることのできる位相変調器とを具備するレーザ装置。

IPC (4件)：

B23K 26/073 , B23K 26/00 , H01S 3/10 , H01S 3/00

FI (4件)：

B23K26/073 , B23K26/00 N , H01S3/10 Z , H01S3/00 B

Fターム (20件)：

4E168CA02 , 4E168DA14 , 4E168DA24 , 4E168DA37 , 4E168DA43 , 4E168DA60 , 4E168EA04 , 4E168EA08 , 4E168EA11 , 5F172AE03 , 5F172AE09 , 5F172AF02 , 5F172AM08 , 5F172NN05 , 5F172NN22 , 5F172NN23 , 5F172NP02 , 5F172NP03 , 5F172NR02 , 5F172ZZ01

引用特許：

出願人引用 (5件)

レーザー光線照射機構およびレーザー加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-023830 出願人：株式会社ディスコ
レーザービーム切り替え装置及びレーザー加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-043824 出願人：日立ビアメカニクス株式会社
デュアルビームレーザ加工システムにおけるコヒーレントクロストークの低減技術
公報種別：公表公報出願番号：特願2009-522960 出願人：エレクトロサイエンティフィックインダストリーズインコーポレーテッド

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審査官引用 (4件)

レーザービーム切り替え装置及びレーザー加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-043824 出願人：日立ビアメカニクス株式会社
レーザー光線照射機構およびレーザー加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-023830 出願人：株式会社ディスコ
デュアルビームレーザ加工システムにおけるコヒーレントクロストークの低減技術
公報種別：公表公報出願番号：特願2009-522960 出願人：エレクトロサイエンティフィックインダストリーズインコーポレーテッド

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