特許
J-GLOBAL ID:201803002627989286
インプラントを操作するための装置および方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
高岡 亮一
, 小田 直
, 岩堀 明代
, 高橋 香元
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-558389
公開番号(公開出願番号):特表2018-519873
出願日: 2016年05月11日
公開日(公表日): 2018年07月26日
要約:
生存する対象中にインプラントを設置する前のインプラントのプラズマ処理のための装置が、提供される。装置は、活性化デバイスと、活性化デバイスから取り外しできる携帯可能なコンテナと、を含む。携帯可能なコンテナは、流体中に浸漬されたインプラントを含有する閉鎖コンパートメントを含み、活性化デバイスは、携帯可能なコンテナを受けとるように構成されたスロットを含む。活性化デバイスは、少なくとも1つの電極と電気的に連結されるように構成され、かつ携帯可能なコンテナがスロット中に配設されると、閉鎖コンパートメント中でプラズマ発生電場を適用するのに適した電力を少なくとも1つの電極に提供するように構成される、電気回路をさらに含む。シリコーンインプラントにプラズマ処理を提供するのに適したコンテナ、および植込み術のためのインプラントを調製する方法もまた、提供される。【選択図】なし
請求項(抜粋):
生存する対象中にインプラントを設置する前に電気的絶縁材料で作製された前記インプラントをプラズマ処置するためのプラズマチャンバーであって、
底部および頂部を有する内面を有しかつ前記インプラントを収納するように適合された内部空間を画定する閉鎖可能なコンパートメントと;
前記底部から突き出していてかつ乳房インプラントの総表面積の約5%未満の表面積に沿って前記乳房インプラントを接触させながら前記乳房インプラントを前記底部の上で支持するように構成されるスペーサと;
それぞれ前記閉鎖可能なコンパートメントの前記底部および前記上部にある少なくとも1つの電極であって、前記内面から窪んだ空洞の中に位置するチップを有し、EM電源と電気的に連結して前記閉鎖可能なコンパートメントの内側でプラズマ発生EM場を発生するように構成されている、少なくとも1つの電極と、
を含む、プラズマチャンバー。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (38件):
2G084AA24
, 2G084BB11
, 2G084CC03
, 2G084CC04
, 2G084CC05
, 2G084CC06
, 2G084CC12
, 2G084CC13
, 2G084CC19
, 2G084CC25
, 2G084CC33
, 2G084CC34
, 2G084DD01
, 2G084DD02
, 2G084DD03
, 2G084DD13
, 2G084DD17
, 2G084DD22
, 2G084EE05
, 2G084EE06
, 2G084EE15
, 2G084EE24
, 2G084EE25
, 2G084HH05
, 2G084HH34
, 2G084HH42
, 4C097AA01
, 4C097AA03
, 4C097AA19
, 4C097AA20
, 4C097BB01
, 4C097CC03
, 4C097DD09
, 4C097DD12
, 4C097EE13
, 4C097EE19
, 4C097MM03
, 4C097MM07
引用特許:
前のページに戻る