特許
J-GLOBAL ID：201803002998873558

芳香族アミンの製造方法

発明者：
江口 久雄

江口 久雄 について

, 
宮崎 高則

宮崎 高則 について

, 
中尾 佳亮

中尾 佳亮 について


出願人/特許権者：
国立大学法人京都大学

国立大学法人京都大学 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-213753
公開番号（公開出願番号）：特開2018-070527
出願日： 2016年10月31日
公開日（公表日）： 2018年05月10日
要約：
【課題】 従来公知のカップリング反応原料化応物の脱離基として前記のハロゲン原子を選択する場合、反応後に有害なハロゲン廃棄物が副生するため、廃液の処理や煩雑であり環境負荷が高いという課題があった。一方、前記脱離基としてトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を選択した場合、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基を有する原料化合物を製造する際の環境負荷が大きく、尚且つ当該製造作業が煩雑であるという課題があった。【解決手段】 金属触媒存在下、芳香族ニトロ化合物と、アミン化合物をクロスカップリング反応させることを特徴とする芳香族アミン化合物の製造方法を提供する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
金属触媒存在下、芳香族ニトロ化合物と、アミン化合物をクロスカップリング反応させることを特徴とする芳香族アミン化合物の製造方法。
IPC (5件)：
C07C 209/60 ,  C07C 211/55 ,  C07C 213/02 ,  C07C 217/92 ,  C07C 217/94
FI (5件)：
C07C209/60 ,  C07C211/55 ,  C07C213/02 ,  C07C217/92 ,  C07C217/94
Fターム (11件)：
4H006AA02 ,  4H006AC52 ,  4H006BA02 ,  4H006BA25 ,  4H006BA35 ,  4H006BA45 ,  4H006BA53 ,  4H006BB11 ,  4H006BB20 ,  4H039CA71 ,  4H039CL25
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)
引用文献：
出願人引用 (3件)

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