特許
J-GLOBAL ID:201803003253359301

多層体の製造方法、および、多層体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 恩田 誠 ,  恩田 博宣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-077078
公開番号(公開出願番号):特開2018-183987
出願日: 2018年04月12日
公開日(公表日): 2018年11月22日
要約:
【課題】レリーフ層における形状の精度を高めることを可能とした多層体の製造方法、および、多層体を提供する。【解決手段】多層体10の製造方法は、基材を含む塗工対象に、熱可塑性を有し、かつ、タックフリー性を有する紫外線硬化性組成物を含む塗工液を塗工することによって前駆層を形成することと、前駆層に版胴31を押し当て、かつ、前駆層を加熱することによって、前駆層に凹凸面を形成することと、LED光源33を用いて前駆層に紫外線を照射することによって前駆層を硬化させ、これによってレリーフ層を形成することとを含む。凹凸面において、凹凸のピッチに対する溝の深さがアスペクト比であり、凹凸面のアスペクト比が、0.3以上3.0以下である。【選択図】図6
請求項(抜粋):
ロールツーロール法によって搬送されている基材にレリーフ層を形成することによって多層体を製造する多層体の製造方法であって、 基材を含む塗工対象に、熱可塑性を有し、かつ、タックフリー性を有する紫外線硬化性組成物を含む塗工液を塗工することによって前駆層を形成することと、 前記前駆層に原版を押し当て、かつ、前記前駆層を加熱することによって、前記前駆層に凹凸面を形成することと、 LED光源を用いて前記前駆層に紫外線を照射することによって前記前駆層を硬化させ、これによってレリーフ層を形成することと、を含み、 前記凹凸面において、凹凸のピッチに対する溝の深さがアスペクト比であり、前記凹凸面のアスペクト比が、0.3以上3.0以下である 多層体の製造方法。
IPC (4件):
B32B 27/00 ,  B29C 43/46 ,  B29C 43/30 ,  H01L 21/027
FI (4件):
B32B27/00 E ,  B29C43/46 ,  B29C43/30 ,  H01L21/30 502D
Fターム (40件):
4F100AK42A ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100DD01C ,  4F100EJ17B ,  4F100EJ39C ,  4F100EJ42C ,  4F100EJ54B ,  4F100EJ54C ,  4F100HB00 ,  4F100JA05 ,  4F100JA07 ,  4F100JB14B ,  4F100JB14C ,  4F100JB16C ,  4F100JL02 ,  4F100JL14B ,  4F100YY00C ,  4F204AA44 ,  4F204AB03 ,  4F204AC03 ,  4F204AD05 ,  4F204AD08 ,  4F204AF01 ,  4F204AG05 ,  4F204AJ08 ,  4F204AR12 ,  4F204AR13 ,  4F204FA06 ,  4F204FB02 ,  4F204FB22 ,  4F204FN11 ,  4F204FN17 ,  4F204FQ31 ,  5F146AA33 ,  5F146AA34

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