特許
J-GLOBAL ID:201803003591257182

ゲル数が減少し、反応器汚損が少ないエチレン系ポリマーを生成する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 小林 浩 ,  片山 英二 ,  大森 規雄 ,  新井 剛 ,  鈴木 康仁
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-511379
公開番号(公開出願番号):特表2018-528304
出願日: 2016年09月20日
公開日(公表日): 2018年09月27日
要約:
エチレン系ポリマーは、エチレン及び少なくとも1つの連鎖移動剤系を含む反応混合物を重合することを含む方法によって作製され、この重合は、少なくとも1つのフリーラジカル開始剤の存在下で行われ、重合は、少なくとも3つの反応ゾーンを有する少なくとも1つの管型反応器を含む反応器構成内で行われ、少なくとも2つの反応ゾーンが、エチレン供給物を受け、第1の反応ゾーン内の重合度が、(5/LCBf)*3150以下であり、本方法によって形成されるエチレン系ポリマーが以下の特性、(A)LCBf≧(4.7+0.5*log(I2))、及び(B)0.2〜25dg/分のI2を含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
エチレン系ポリマーを形成する方法であって、前記方法が、エチレン及び少なくとも1つの連鎖移動剤系を含む反応混合物を重合することを含み、 前記重合が、少なくとも1つのフリーラジカル開始剤の存在下で行われ、 前記重合が、少なくとも3つの反応ゾーンを有する少なくとも1つの管型反応器を含む反応器構成内で行われ、 少なくとも2つの反応ゾーンが、エチレン供給物を受け、 第1の反応ゾーン内の重合度(DP)が、(5/LCBf)*3150以下であり、 前記方法によって形成される前記エチレン系ポリマーが以下の特性、 (A)LCBf≧(4.7+0.5*log(I2))、及び (B)0.2〜25dg/分のI2を含む、方法。
IPC (1件):
C08F 10/02
FI (1件):
C08F10/02
Fターム (14件):
4J100AA01Q ,  4J100AA02P ,  4J100AA15Q ,  4J100AG04Q ,  4J100AL03Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100DA14 ,  4J100FA03 ,  4J100FA04 ,  4J100FA22 ,  4J100FA29 ,  4J100FA41
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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