特許
J-GLOBAL ID:201803004254220877
照明光学系、露光装置、及び物品の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
阿部 琢磨
, 黒岩 創吾
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-193126
公開番号(公開出願番号):特開2018-054992
出願日: 2016年09月30日
公開日(公表日): 2018年04月05日
要約:
【課題】最小線幅の増大を抑制しつつ基板上に形成されるパターンの線幅のばらつきを低減できる照明光学系を提供すること。【解決手段】本発明は、投影露光装置において原版9光を照明するための照明光学系10に関する。照明光学系10は、第1波長P1の光と該第1波長よりも長波長である第2波長P2の光とが混在する光を射出する光源1と、光源1からの光を光入射面で受け、光射出面側に2次光源を生成するオプティカルインテグレータ7と、2次光源の光強度分布に応じて、第1波長P1の光に対して第2波長P2の光を相対的に減光する減光手段61と、を有することを特徴とする。【選択図】図2
請求項(抜粋):
投影露光装置において原版を照明するための照明光学系であって、
第1波長の光と該第1波長よりも長波長である第2波長の光とが混在する光を射出する光源と、
前記光源からの光を光入射面で受け、光射出面側に2次光源を生成するオプティカルインテグレータと、
前記2次光源の光強度分布に応じて、前記第1波長の光に対して前記第2波長の光を相対的に減光する減光手段と、を有することを特徴とする照明光学系。
IPC (2件):
FI (3件):
G03F7/20 501
, G03F7/20 521
, G02B19/00
Fターム (11件):
2H052BA02
, 2H052BA03
, 2H052BA09
, 2H052BA12
, 2H197AA05
, 2H197AA06
, 2H197BA05
, 2H197BA10
, 2H197CA05
, 2H197CB12
, 2H197CB27
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