特許
J-GLOBAL ID:201803004263983131

コルチゾール分析用センサ、コルチゾール分析方法、ストレス評価試薬、ストレス評価方法、コルチゾール関連疾患の試験試薬、およびコルチゾール関連疾患の罹患可能性を試験する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 辻丸 光一郎 ,  中山 ゆみ ,  伊佐治 創
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2016071937
公開番号(公開出願番号):WO2017-098746
出願日: 2016年07月26日
公開日(公表日): 2017年06月15日
要約:
コルチゾールの分析に利用可能な新たなコルチゾール分析用センサ、コルチゾール分析方法、ストレス評価試薬、ストレス評価方法、コルチゾール関連疾患の試験試薬、およびコルチゾール関連疾患の罹患可能性を試験する方法を提供する。 本発明のコルチゾール分析用センサは、ターゲットに結合する結合領域(A)とG-カルテット構造を形成するG形成領域(D)とを含む(I)、(II)および(III)からなる群から選択された少なくとも1つの核酸分子を含み、前記ターゲットが、コルチゾールであり、前記ターゲット非存在下、前記G形成領域(D)は、G-カルテット構造の形成が阻害され不活性型となり、前記ターゲット存在下、前記G形成領域(D)は、G-カルテット構造を形成して活性型となることを特徴とする。
請求項(抜粋):
ターゲットに結合する結合領域(A)とG-カルテット構造を形成するG形成領域(D)とを含む下記(I)、(II)および(III)からなる群から選択された少なくとも1つの核酸分子を含み、 前記ターゲットが、コルチゾールであり、 前記ターゲット非存在下、前記G形成領域(D)は、G-カルテット構造の形成が阻害され不活性型となり、 前記ターゲット存在下、前記G形成領域(D)は、G-カルテット構造を形成して活性型となることを特徴とする、コルチゾール分析用センサ。 (I)前記G形成領域(D)および前記結合領域(A)を有し、 前記結合領域(A)は、ステム形成領域(SD)、中間領域(C)およびステム形成領域(SC)を有し、 前記ステム形成領域(SD)は、前記G形成領域(D)に対して相補的な配列を有し、 前記ステム形成領域(SC)は、前記中間領域(C)に対して相補的な配列を有する一本鎖核酸分子。 (II)前記G形成領域(D)および前記結合領域(A)を有し、 前記G形成領域(D)が、第1領域(D1)と第2領域(D2)とを含み、前記第1領域(D1)と前記第2領域(D2)とによりG-カルテットを形成する領域であり、 前記結合領域(A)の一方の末端側に前記第1領域(D1)を有し、前記結合領域(A)の他方の末端側に前記第2領域(D2)を有する一本鎖核酸分子。 (III)第1鎖(ss1)と第2鎖(ss2)とから構成される二本鎖核酸分子であり、 前記第1鎖(ss1)は、前記G形成領域(D)と前記結合領域(A)とをこの順序で有し、 前記第2鎖(ss2)は、ステム形成領域(SD)およびステム形成領域(SA)をこの順序で有し、前記ステム形成領域(SD)は、前記G形成領域(D)に対して相補的な配列を有し、前記ステム形成領域(SA)は、前記結合領域(A)に対して相補的な配列を有する二本鎖核酸分子。
IPC (3件):
C12Q 1/68 ,  C12N 15/11 ,  A61K 49/00
FI (3件):
C12Q1/68 Z ,  C12N15/11 Z ,  A61K49/00
Fターム (6件):
4C085HH11 ,  4C085JJ02 ,  4C085KA27 ,  4C085KB92 ,  4C085LL01 ,  4C085LL07

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