特許
J-GLOBAL ID：201803004277580200

荷電粒子ビームの分解能測定方法及び荷電粒子ビーム描画装置

発明者：
清水 幸毅

清水 幸毅 について

, 
大歳 研司

大歳 研司 について


出願人/特許権者：
株式会社ニューフレアテクノロジー

株式会社ニューフレアテクノロジー について


代理人 (2件)： 重野 剛 ,  重野 隆之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-201835
公開番号（公開出願番号）：特開2018-026515
出願日： 2016年10月13日
公開日（公表日）： 2018年02月15日
要約：
【課題】荷電粒子ビームの分解能及び開き角を精度良く求める。【解決手段】本発明の一態様による荷電粒子ビームの分解能測定方法は、荷電粒子ビームのフォーカス位置を高さ方向に変え、前記フォーカス位置毎に、基板上に形成されたドットマークを前記荷電粒子ビームで走査する工程と、前記フォーカス位置毎に、前記ドットマークから反射した反射荷電粒子を検出する工程と、前記反射荷電粒子の検出結果から、散乱荷電粒子分布を前記フォーカス位置に対応する高さ毎に演算する工程と、前記荷電粒子ビームの開き角及び分解能をパラメータとして含む前記荷電粒子ビームのビーム波形の近似式と前記ドットマークのマーク形状との畳み込み演算を行う工程と、前記高さ毎の散乱荷電粒子分布と前記畳み込み演算の演算結果とをフィッティングし、前記開き角及び分解能を算出する工程と、を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームのフォーカス位置を高さ方向に変え、前記フォーカス位置毎に、基板上に形成されたドットマークを前記荷電粒子ビームで走査する工程と、 前記フォーカス位置毎に、前記ドットマークから反射した反射荷電粒子を検出する工程と、 前記反射荷電粒子の検出結果から、散乱荷電粒子分布を前記フォーカス位置に対応する高さ毎に演算する工程と、 前記荷電粒子ビームの開き角及び分解能をパラメータとして含む前記荷電粒子ビームのビーム波形の近似式と前記ドットマークのマーク形状との畳み込み演算を行う工程と、 前記高さ毎の散乱荷電粒子分布と前記畳み込み演算の演算結果とをフィッティングし、前記開き角及び分解能を算出する工程と、 を備える荷電粒子ビームの分解能測定方法。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  H01J 37/04 ,  H01J 37/305 ,  H01J 37/244 ,  G01B 15/00
FI (5件)：
H01L21/30 541N ,  H01J37/04 A ,  H01J37/305 B ,  H01J37/244 ,  G01B15/00 B
Fターム (20件)：
2F067AA06 ,  2F067AA13 ,  2F067EE04 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK07 ,  2F067KK08 ,  2F067NN02 ,  2F067RR12 ,  2F067RR42 ,  5C030AA04 ,  5C030AB03 ,  5C033NN02 ,  5C034BB10 ,  5F056AA04 ,  5F056BA06 ,  5F056BB01 ,  5F056BC02 ,  5F056BC03 ,  5F056CB32
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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