特許
J-GLOBAL ID:201803004399475237

円筒形セラミックス焼結体の製造方法及び円筒形セラミックス焼結体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 小池 晃 ,  河野 貴明 ,  村上 浩之 ,  伊賀 誠司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-241234
公開番号(公開出願番号):特開2018-095504
出願日: 2016年12月13日
公開日(公表日): 2018年06月21日
要約:
【課題】焼結時における変形が少なく、繰り返し焼成を行っても安定した形状を有する円筒形セラミックス焼結体の製造方法及び円筒形セラミックス焼結体を提供することを目的とする。【解決手段】焼成炉を用いて円筒形セラミックス成形体を焼成する円筒形セラミックス焼結体の製造方法であって、円筒形成形型のキャビティ内に原料粉末を充填し、加圧成形して円筒形セラミックス成形体を得る成形工程S1と、円筒形セラミックス成形体を焼成炉内に配置する配置工程S2と、配置した円筒形セラミックス成形体を焼成炉において焼成して円筒形セラミックス焼結体を得る焼成工程S3とを有し、配置工程S2では、焼成炉内の炉床あるいは炉床の上に設置した敷板に、複数の支持部材を並べ、該支持部材は1箇所につき3段以上重ねあわせて載置し、該支持部材上に円筒形セラミックス成形体を直立させた状態で載置する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
焼成炉を用いて円筒形セラミックス成形体を焼成する円筒形セラミックス焼結体の製造方法であって、 円筒形成形型のキャビティ内に原料粉末を充填し、加圧成形して円筒形セラミックス成形体を得る成形工程と、 前記円筒形セラミックス成形体を前記焼成炉内に配置する配置工程と、 前記配置した円筒形セラミックス成形体を前記焼成炉において焼成して円筒形セラミックス焼結体を得る焼成工程とを有し、 前記配置工程では、前記焼成炉内の炉床あるいは炉床の上に設置した敷板に、複数の支持部材を並べ、該支持部材は1箇所につき3段以上重ねあわせて載置し、該支持部材上に前記円筒形セラミックス成形体を直立させた状態で載置する円筒形セラミックス焼結体の製造方法。
IPC (2件):
C04B 35/64 ,  C23C 14/34
FI (2件):
C04B35/64 ,  C23C14/34 A
Fターム (3件):
4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC13
引用特許:
審査官引用 (2件)

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