特許
J-GLOBAL ID:201803004514815195

処理方法、処理装置および処理プログラム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 福地 武雄 ,  白川 洋一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-125248
公開番号(公開出願番号):特開2017-227586
出願日: 2016年06月24日
公開日(公表日): 2017年12月28日
要約:
【課題】少ない回数のφスキャンで極図形のαの重複なしに連続的に極点測定を行うことができ、効率的な測定を可能とする処理方法、処理装置および処理プログラムを提供する。【解決手段】X線回折による極点測定の条件を決定する処理方法であって、回折角2θの入力を受け付けるステップと、入力された2θでの極点測定において2次元の検出面230aで一度に検出できる散乱ベクトルと試料面とのなす角αの範囲をα=90°からα=0°へ向けて重複なしに連続させるように、試料面内の回転角φについて各φスキャンにおける入射X線とx軸とのなす角ωおよび試料のあおり角χを決定するステップと、を含み、ωおよびχの決定を繰り返す。【選択図】図1
請求項(抜粋):
X線回折による極点測定の条件を決定する処理方法であって、 回折角2θの入力を受け付けるステップと、 前記入力された2θでの極点測定において2次元の検出面で一度に検出できる散乱ベクトルと試料面とのなす角αの範囲をα=90°からα=0°へ向けて重複なしに連続させるように、試料面内の回転角φについて各φスキャンにおける入射X線とx軸とのなす角ωおよび試料のあおり角χを決定するステップと、を含み、 前記ωおよびχの決定を繰り返すことを特徴とする処理方法。
IPC (1件):
G01N 23/20
FI (1件):
G01N23/20
Fターム (9件):
2G001AA01 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001GA01 ,  2G001GA13 ,  2G001JA06 ,  2G001JA08 ,  2G001JA11 ,  2G001KA08
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献:
出願人引用 (1件)
  • 8. TEXTURE ANALYSIS
審査官引用 (1件)
  • 8. TEXTURE ANALYSIS

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