特許
J-GLOBAL ID：201803004646094543
固定装置およびイオン照射方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
森下 賢樹
, 富所 輝観夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-237316
公開番号（公開出願番号）：特開2018-093127
出願日： 2016年12月07日
公開日（公表日）： 2018年06月14日
要約：
【課題】半導体基板に対するマスクの位置保持をより確実にするイオン照射のための固定技術を提供する。【解決手段】ウェハ26にマスク25を介してイオン照射をする際にマスク25をウェハ26に固定するための固定装置32が提供される。固定装置32は、マスク25をウェハ26にかぶせるようにしてマスク25およびウェハ26を載せるウェハホルダ24と、ウェハホルダ24に接しかつマスク25の側面に非接触であるようにマスク25およびウェハ26をウェハホルダ24に固定する固定治具34と、を備える。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
半導体基板にマスクを介してイオン照射をする際に前記マスクを前記半導体基板に固定するための固定装置であって、
前記マスクを前記半導体基板にかぶせるようにして前記マスクおよび前記半導体基板を載せるウェハホルダと、
前記ウェハホルダに接しかつ前記マスクの側面に非接触であるように前記マスクおよび前記半導体基板を前記ウェハホルダに固定する固定治具と、を備えることを特徴とする固定装置。
IPC (4件)：
H01L 21/265
, H01L 21/266
, H01L 21/673
, H01L 21/677
H01L21/265 603D
, H01L21/265 M
, H01L21/68 U
, H01L21/68 A
5F131AA02
, 5F131BA23
, 5F131CA18
, 5F131CA46
, 5F131DA05
, 5F131DA33
, 5F131DA42
, 5F131DA52
, 5F131GA05
, 5F131GA26
, 5F131GA42
, 5F131GA68
