特許

J-GLOBAL ID：201803005479972556

基板処理方法および基板処理装置

発明者： 藤原 友則 ,  柴山 宣之 ,  吉田 幸史
出願人/特許権者： 株式会社SCREENホールディングス
代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-201145
公開番号（公開出願番号）：特開2015-070019
特許番号：特許第6242135号
出願日： 2013年09月27日
公開日（公表日）： 2015年04月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 a)基板をその面内の中心を通る鉛直な回転軸のまわりで回転させつつ、前記基板の表面周縁部に向けて、第1の処理液を吐出する工程と、 b)前記第1の処理液の吐出を停止した後、前記表面周縁部に残存している前記第1の処理液を、前記基板の端面側に寄せて保持した後で、前記端面から基板の外に振り切る工程と、 c)前記b)工程の後に、前記基板を回転させつつ、前記表面周縁部に向けて、第2の処理液を吐出する工程と、 を備える、基板処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  H01L 21/306 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/306 Z

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-330404   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-019953   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-330404   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-019953   出願人：大日本スクリーン製造株式会社