特許
J-GLOBAL ID：201803005591057739
検出装置、露光装置及び物品の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-149936
公開番号（公開出願番号）：特開2015-023145
特許番号：特許第6302185号
出願日： 2013年07月18日
公開日（公表日）： 2015年02月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板のマークの位置を検出する検出装置であって、
前記基板を透過しない波長の第1光で前記基板の第1面に形成された第1被検マークを照明し、前記基板を透過する波長の第2光で前記基板の第2面に形成された第2被検マークを前記第1面を介して照明し、前記第1面側からの光により前記第1被検マークの像を、前記第2面側からの光により前記第2被検マークの像を形成する光学系と、
前記光学系により形成された前記第1被検マークの像及び前記第2被検マークの像のそれぞれを検出して第1被検マーク信号及び第2被検マーク信号を取得する検出部と、
前記第1被検マーク信号及び前記第2被検マーク信号を用いて、前記第1被検マークの位置及び前記第2被検マークの位置のそれぞれを求める処理部と、を有し、
前記処理部は、前記光学系によって前記第2面の前記第2被検マークが形成されていない第2面側非マーク領域を前記第2光で照明し、前記第2面側非マーク領域からの光を前記検出部で検出して取得される第2面側下地信号を前記第2被検マーク信号から減算し、前記第2面側下地信号が減算された前記第2被検マーク信号に基づいて、前記第2被検マークの位置を求めることを特徴とする検出装置。
IPC (2件)：
G03F 9/00 ( 200 6.01)
, G01B 11/00 ( 200 6.01)
G03F 9/00 A
, G01B 11/00 H
