特許
J-GLOBAL ID：201803005595818483
ピラゾール誘導体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
高島 一
, 土井 京子
, 鎌田 光宜
, 田村 弥栄子
, 小池 順造
, 當麻 博文
, 赤井 厚子
, 戸崎 富哉
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016059101
公開番号（公開出願番号）：WO2016-152886
出願日： 2016年03月23日
公開日（公表日）： 2016年09月29日
要約：
本発明は、医薬や農薬の中間体として有用なピラゾール誘導体の新規な製造方法、並びに前記方法における新規な中間体化合物を提供する。 本発明は、化合物(5)と酸化剤とを反応させ、ピラゾール誘導体(6)の製造方法に関する。(式中、R1、R2、R3、X1、X2及びZ1は、請求の範囲及び明細書と同義である。)
請求項（抜粋）：
下式(5)で表される化合物と酸化剤とを反応させることを特徴とする、下式(6)で表されるピラゾール誘導体の製造方法。
IPC (4件)：
C07D 231/14
, C07D 231/12
, C07C 225/14
, C07C 221/00
C07D231/14
, C07D231/12 C
, C07C225/14
, C07C221/00
4H006AA01
, 4H006AA02
, 4H006AB84
, 4H006AC24
, 4H006BB12
, 4H006BR10
, 4H006BU32
, 4H006BU50
