特許

J-GLOBAL ID：201803006199629801

積層体

発明者： 佐藤 義和 ,  朱峰 江美
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-193145
公開番号（公開出願番号）：特開2018-052041
出願日： 2016年09月30日
公開日（公表日）： 2018年04月05日
要約：

【課題】水蒸気に対する高いガスバリア性と高い膜質安定性を有し、同時にフレキシブル性を有する積層体の提供。【解決手段】基材1の少なくとも片側に、SiとOとNとを含有する層[A]2を有する積層体であって、層[A]2の厚み方向において20nm以上有し、層[A]2の基材側に無機層[B]3を有することで、層[A]2の元素比O/Nが、0<O/N<0.170の範囲を満たす領域に存在するSi-N結合やSi-H結合を、基材1側から保護することができ、層[A]2の膜質安定性が向上する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材の少なくとも片側に、SiとOとNとを含有する層[A]を有する積層体であって、前記層[A]の元素比O/Nが、0<O/N<0.170の範囲を満たす領域を厚み方向において20nm以上有する、積層体。

IPC (1件)：

B32B 9/00

FI (1件)：

B32B9/00 A

Fターム (30件)：

4F100AA01C ,  4F100AA12B ,  4F100AA20B ,  4F100AB10C ,  4F100AB11C ,  4F100AB12C ,  4F100AB18C ,  4F100AB19C ,  4F100AB20C ,  4F100AB21C ,  4F100AB24C ,  4F100AK25 ,  4F100AK42A ,  4F100AK79B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100EH46 ,  4F100EH66 ,  4F100EJ54 ,  4F100EJ86 ,  4F100GB23 ,  4F100GB41 ,  4F100GB66 ,  4F100JD02 ,  4F100JD04 ,  4F100YY00B