特許

J-GLOBAL ID：201803006446658895

沈降シリカ吸収剤

発明者： グオ, クンフイ ,  ノックス, キャロル エル. ,  コーラー, ラファエル オー. ,  マーティン, ジャスティン ,  モノット, シャンティラル エム. ,  オーケル, ティモシー エー. ,  ラードン, ダニエル イー.
出願人/特許権者： ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド
代理人 (2件)： 山本 秀策 ,  森下 夏樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-539950
特許番号：特許第6228920号
出願日： 2012年09月04日
請求項（抜粋）：

【請求項1】乾燥した沈降シリカを含む分離媒体であって、前記シリカは、log10P>2.2である孔表面積Pを有し、前記孔表面積Pは、1.7nm〜300nmの直径を有する孔に対するBJH分析によって得られており、BET対CTABの比は、シリカの表面改質前に測定すると、少なくとも1.0である、分離媒体。

IPC (3件)：

B01J 20/10 ( 200 6.01) ,  B01D 15/00 ( 200 6.01) ,  C01B 33/143 ( 200 6.01)

FI (3件)：

B01J 20/10 A ,  B01D 15/00 Z ,  C01B 33/143

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 沈降シリカの新規製造方法、特定の形態、特定の粒度及び特定の多孔度を有する沈降シリカ並びに特に重合体の強化のためのそれらの使用
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2010-550156   出願人：ロディアオペレーションズ
• 加水分解に安定な被膜による電気浸透の抑制
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-279962   出願人：インディアナユニバーシティファウンデイション