特許
J-GLOBAL ID:201803006500216607

線形加速装置、中性子ビーム生成装置及び粒子線治療装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人サクラ国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-212517
公開番号(公開出願番号):特開2018-073639
出願日: 2016年10月31日
公開日(公表日): 2018年05月10日
要約:
【課題】半導体型高周波増幅器を用いてイオンビームを低エネルギーから安定的に加速することが可能な線形加速装置を提供する。【解決手段】本実施形態の線形加速装置4は、第1の線形加速器41と、第1の線形加速器41に対し、イオンビームの進行方向に沿い、かつイオンビームの進行方向の下流側に設置された第2の線形加速器42と、少なくとも第1の線形加速器41に設置されてイオンビームを収束させるビーム収束機器と、第1の線形加速器41及び第2の線形加速器42にそれぞれに接続されて高周波電力を供給する半導体型高周波増幅器45と、を備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1の線形加速器と、 前記第1の線形加速器に対し、イオンビームの進行方向に沿い、かつ前記イオンビームの進行方向の下流側に設置された第2の線形加速器と、 少なくとも前記第1の線形加速器に設置されて前記イオンビームを収束させるビーム収束機器と、 前記第1の線形加速器及び前記第2の線形加速器にそれぞれに接続されて高周波電力を供給する半導体型高周波増幅器と、 を備えることを特徴とする線形加速装置。
IPC (7件):
H05H 9/04 ,  H05H 3/06 ,  G21K 5/02 ,  H05H 9/00 ,  H05H 1/46 ,  H05H 13/04 ,  A61N 5/10
FI (7件):
H05H9/04 ,  H05H3/06 ,  G21K5/02 N ,  H05H9/00 F ,  H05H1/46 C ,  H05H13/04 G ,  A61N5/10 H
Fターム (23件):
2G084AA12 ,  2G084CC15 ,  2G084CC33 ,  2G085AA04 ,  2G085AA11 ,  2G085AA13 ,  2G085AA18 ,  2G085BA02 ,  2G085BA13 ,  2G085BA15 ,  2G085BA17 ,  2G085BA19 ,  2G085BB15 ,  2G085CA20 ,  2G085CA22 ,  2G085DA03 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AC07 ,  4C082AE01 ,  4C082AG02 ,  4C082AG03
引用特許:
審査官引用 (4件)
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