特許

J-GLOBAL ID：201803006949420365

構造体の製造方法

発明者： 小島 綾太 ,  関谷 敏雄
出願人/特許権者： 綜研化学株式会社
代理人 (3件)： SK特許業務法人 ,  奥野 彰彦 ,  伊藤 寛之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-180406
公開番号（公開出願番号）：特開2018-046182
出願日： 2016年09月15日
公開日（公表日）： 2018年03月22日
要約：

【課題】樹脂層の凹凸パターンの凹部に存在する残膜を除去する際の凹凸パターンの形状の崩れを抑制することができる、構造体の製造方法を提供する。【解決手段】本発明によれば、光硬化性樹脂組成物を基材上に塗布して被転写層を形成する被転写層形成工程と、被転写層にモールドを押し付けた状態で前記被転写層に活性エネルギー線を照射して前記被転写層を硬化させることによって凹凸パターンを有する樹脂層を形成する凹凸パターン形成工程と、前記樹脂層に対してアッシングを行って、前記樹脂層のうち前記凹凸パターンの凹部に存在する残膜を除去するアッシング工程を備え、前記光硬化性樹脂組成物は、光重合性のモノマーを含有し、前記モノマーの平均C/H比が0.95以上である、構造体の製造方法が提供される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光硬化性樹脂組成物を基材上に塗布して被転写層を形成する被転写層形成工程と、 被転写層にモールドを押し付けた状態で前記被転写層に活性エネルギー線を照射して前記被転写層を硬化させることによって凹凸パターンを有する樹脂層を形成する凹凸パターン形成工程と、 前記樹脂層に対してアッシングを行って、前記樹脂層のうち前記凹凸パターンの凹部に存在する残膜を除去するアッシング工程を備え、 前記光硬化性樹脂組成物は、光重合性のモノマーを含有し、 前記モノマーの平均C/H比が0.95以上である、構造体の製造方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z

Fターム (16件)：

4F209AA44 ,  4F209AB04 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AJ02 ,  4F209AJ03 ,  4F209AR13 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31 ,  5F146AA33