特許
J-GLOBAL ID:201803006968845431
低級オレフィンの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
, 江口 昭彦
, 内藤 和彦
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2016061737
公開番号(公開出願番号):WO2017-179108
出願日: 2016年04月11日
公開日(公表日): 2017年10月19日
要約:
本発明は、メタノール及びジメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む原料とゼオライト含有成形体触媒とを反応器内で接触させる接触工程を有し、当該原料は該原料の総量に対し当該メタノール及びジメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも1種を10質量%以上含み、当該ゼオライト含有成形体触媒中のゼオライトは下記(1)〜(4)を満たす、低級オレフィンの製造方法を提供する:(1)該ゼオライトは、中間細孔径ゼオライトである(2)該ゼオライトは、実質的にプロトンを含まない(3)該ゼオライトは、銀を含む(4)該ゼオライトのシリカアルミナモル比(SiO2/Al2O3モル比)は、800以上2000以下である。
請求項(抜粋):
メタノール及びジメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む原料と、ゼオライト含有成形体触媒と、を反応器内で接触させる、接触工程を有し、
前記原料は、該原料の総量に対し、前記メタノール及びジメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも1種を、10質量%以上含み、
前記ゼオライト含有成形体触媒中のゼオライトは、下記(1)〜(4)を満たす、低級オレフィンの製造方法:
(1)該ゼオライトは、中間細孔径ゼオライトである
(2)該ゼオライトは、実質的にプロトンを含まない
(3)該ゼオライトは、銀を含む
(4)該ゼオライトのシリカアルミナモル比(SiO2/Al2O3モル比)は、800以上2000以下である。
IPC (8件):
C07C 1/24
, C07C 11/10
, C07C 11/08
, C07C 11/06
, C07C 11/04
, B01J 37/10
, B01J 29/44
, C01B 39/38
FI (8件):
C07C1/24
, C07C11/10
, C07C11/08
, C07C11/06
, C07C11/04
, B01J37/10
, B01J29/44 Z
, C01B39/38
Fターム (62件):
4G073BA02
, 4G073BA04
, 4G073BA49
, 4G073BD26
, 4G073CZ13
, 4G073CZ51
, 4G073DZ02
, 4G073DZ09
, 4G073FA21
, 4G073FE05
, 4G073GA11
, 4G073GA13
, 4G073UA03
, 4G169AA03
, 4G169BA02A
, 4G169BA02B
, 4G169BA07A
, 4G169BA07B
, 4G169BC01A
, 4G169BC02B
, 4G169BC32A
, 4G169BC32B
, 4G169CB02
, 4G169CB21
, 4G169CB63
, 4G169DA06
, 4G169DA08
, 4G169EB18Y
, 4G169EC09X
, 4G169FB29
, 4G169ZA11B
, 4G169ZC04
, 4G169ZC07
, 4G169ZD01
, 4G169ZD03
, 4G169ZF02A
, 4G169ZF02B
, 4G169ZF05A
, 4G169ZF05B
, 4H006AA02
, 4H006AC25
, 4H006AC29
, 4H006BA02
, 4H006BA05
, 4H006BA09
, 4H006BA30
, 4H006BA33
, 4H006BA56
, 4H006BA71
, 4H006BA81
, 4H006BA82
, 4H006BA84
, 4H006BA85
, 4H006BC32
, 4H006BD70
, 4H006BD80
, 4H006DA25
, 4H006DA46
, 4H039CA29
, 4H039CG50
, 4H039CL11
, 4H039CL19
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