特許

J-GLOBAL ID：201803007087646793

位相計測装置

発明者： 遠藤 潤二
出願人/特許権者： 株式会社 エフケー光学研究所
代理人 (1件)： 南 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-186354
公開番号（公開出願番号）：特開2018-048989
出願日： 2016年09月25日
公開日（公表日）： 2018年03月29日
要約：

【課題】位相計測装置において、簡易な構成を可能とするとともに、振動の影響を抑えることを目的とする。【解決手段】本発明は、第1光源から射出した第1の光を平行もしくは略平行に形成して被計測試料を透過させる手段と、被計測試料位置が前側焦点位置と一致するように配置された対物レンズと、対物レンズからの光束を集光し、被計測試料の像を観察面に結像する結像レンズと、光ファイバを使用して導かれ、かつ、第1の光と可干渉な第2の光を拡散して出射する第2光源と、第1の光、第2の光の一方の透過光と、他方の反射光を結像レンズの光軸上で重ねる半透鏡と、観察面上に置かれた撮像装置と、を備え、観察面には、第1の光と第2の光による干渉像が形成されることを特徴とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

第1光源から射出した第1の光を平行もしくは略平行に形成して被計測試料を透過させる手段と、 被計測試料位置が前側焦点位置と一致するように配置された対物レンズと、 対物レンズからの光束を集光し、被計測試料の像を観察面に結像する結像レンズと、 光ファイバを使用して導かれ、かつ、第1の光と可干渉な第2の光を拡散して出射する第2光源と、 第1の光、第2の光の一方の透過光と、他方の反射光を結像レンズの光軸上で重ねる半透鏡と、 観察面上に置かれた撮像装置と、を備え、 観察面には、第1の光と第2の光による干渉像が形成されることを特徴とする 位相計測装置。

IPC (2件)：

G01M 11/02 ,  G01N 21/45

FI (2件)：

G01M11/02 B ,  G01N21/45 A

Fターム (16件)：

2G059AA02 ,  2G059BB08 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059EE05 ,  2G059EE09 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059GG03 ,  2G059HH02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK04 ,  2G086HH07