特許

J-GLOBAL ID：201803007310241130

長期保存安定性が改善されたポリチオール組成物及びその製造方法、並びにこれを用いた光学材料

発明者： シン ジョンファン ,  ホン スンモ ,  シム ジョンミン ,  ハン ヒョクヒ ,  ミョン ジョンファン ,  ソ ヒョンミョン ,  ソン ユジョン
出願人/特許権者： エスケイシー・カンパニー・リミテッド
代理人 (3件)： 井関 勝守 ,  金子 修平 ,  大西 渉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-069399
公開番号（公開出願番号）：特開2018-172381
出願日： 2018年03月30日
公開日（公表日）： 2018年11月08日
要約：

【課題】長期保存安定性が改善されたポリチオール組成物及びその製造方法、並びにこれを用いた重合性組成物及び光学材料を提供する。【解決手段】本発明は、ポリチオールを合成した後に、前記ポリチオール内の活性酸素含有量を調節することにより、保管過程において活性酸素に起因して発生し得る副反応物や物性低下を防止することができるポリチオール組成物の製造方法であり、ポリチオールが合成された後、重合反応などに使用されるまでの保管過程において、長期保存安定性を向上させることができる方法である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

2官能以上のポリチオールを含む組成物内の活性酸素含有量を200ppm以下に調節することを含む、ポリチオール組成物の調製方法。

IPC (4件)：

C07C 319/20 ,  C08G 18/38 ,  C08G 18/72 ,  C07C 321/14

FI (4件)：

C07C319/20 ,  C08G18/38 076 ,  C08G18/72 ,  C07C321/14

Fターム (32件)：

4H006AA02 ,  4H006AC63 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BE01 ,  4H006TA04 ,  4J034BA02 ,  4J034CA32 ,  4J034CB03 ,  4J034CB04 ,  4J034CB05 ,  4J034CC10 ,  4J034HA01 ,  4J034HA07 ,  4J034HA11 ,  4J034HC03 ,  4J034HC12 ,  4J034HC17 ,  4J034HC22 ,  4J034HC46 ,  4J034HC52 ,  4J034HC61 ,  4J034HC71 ,  4J034HC73 ,  4J034KA01 ,  4J034KB02 ,  4J034KC17 ,  4J034KD02 ,  4J034LB02 ,  4J034LB10 ,  4J034QA03 ,  4J034RA13

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 4,4’-チオビスベンゼンチオールの製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-187951   出願人：住友精化株式会社
• 光学材料用ポリチオール化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-228485   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• ビス(イソシアナトメチル)ノルボルナンの安定化方法。
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-335585   出願人：三井化学株式会社