特許
J-GLOBAL ID：201803007694617786
高周波焼入装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤田 隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-206370
公開番号（公開出願番号）：特開2015-067897
特許番号：特許第6309236号
出願日： 2013年10月01日
公開日（公表日）： 2015年04月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 誘導コイルを備えていてワークを誘導加熱する加熱処理部と、冷却液を貯留する冷却液貯留部と、冷却液貯留部内の冷却液をワークに供給する冷却液供給流路と、ワークに供給された冷却液を冷却液貯留部に戻す冷却液回収流路とを備えた高周波焼入装置において、
冷却液貯留部は、少なくとも主貯留部と副貯留部とに分離され、前記副貯留部の容積は主貯留部の容積よりも小さく、前記副貯留部と前記主貯留部との間で冷却液を行き来させることが可能であり、前記副貯留部には加熱手段が設けられていて副貯留部内に貯留された冷却液を昇温可能であり、前記冷却液供給流路は、前記副貯留部から冷却液をくみ出してワークに供給するものであることを特徴とする高周波焼入装置。
IPC (2件)：
C21D 1/667 ( 200 6.01)
, C21D 1/10 ( 200 6.01)
