特許
J-GLOBAL ID:201803007846530460
タンクに燃料ガスを充填するためのステーションおよび方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
蔵田 昌俊
, 野河 信久
, 河野 直樹
, 井上 正
, 鵜飼 健
, 飯野 茂
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-552144
公開番号(公開出願番号):特表2018-511016
出願日: 2016年04月05日
公開日(公表日): 2018年04月19日
要約:
本発明は、タンク(7)に燃料ガスを充填するためのステーション(1)および方法に関する。前記ステーションは、少なくとも1つの燃料ガスソース貯蔵部(3)と、ソース貯蔵部(3)に接続された第1の上流側端部およびタンク(7)と流体連通する第2の下流側端部を有するガス移送システム(8)とを含む。ガス移送システム(8)は、少なくとも1つの制御弁(9、10)を含み、少なくとも1つのソース貯蔵部(3)が、剛性外壁と、剛性外壁によって画定された空間の内側に配置される可撓性シール壁(2)とを含むことを特徴とする。可撓性壁(2)は、燃料ガス用の貯蔵空間を画定する。システム(8)の第1の上流側端部は、可撓性壁(2)によって画定された貯蔵空間に接続される。少なくとも1つの制御弁はまた、可撓性壁(2)と外壁との間に位置する空間が、ソース貯蔵部(3)に液体を移送するためのシステム(12、13)に接続されて、それにより、シール壁(2)内で燃料ガスを充填および/または抽出するときに、ソース貯蔵部(3)において液体を充填または抽出し、かつ貯蔵部(3)内の圧力を制御することを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
加圧燃料ガス、特に水素をタンク(7)に充填するためのステーション(1)であって、少なくとも1つの燃料ガスソース貯蔵部(3)と、前記ソース貯蔵部(3)に接続された上流側の第1の端部および充填される前記タンク(7)と流体連通するように意図された下流側の第2の端部を有するガス移送回路(8)とを含み、前記ガス移送回路(8)が、前記ソース貯蔵部(3)から前記タンクへのガスの移送を制御するための少なくとも1つの弁(9、10)を含み、その前記少なくとも1つのソース貯蔵部(3)が、剛性外壁と、前記剛性外壁によって画定された空間の内側に配置される可撓性シール壁(2)とを含み、前記可撓性壁(2)が前記燃料ガス用の貯蔵空間を画定し、前記回路(8)の前記上流側の第1の端部が、前記可撓性壁(2)によって画定された前記貯蔵空間に接続され、前記可撓性壁(2)と前記外壁との間に位置する前記空間が、液体を前記ソース貯蔵部(3)に移送するための回路(12、13)に接続されて、それにより、前記シール壁(2)の内側で燃料ガスを充填および/または抽出するときに、前記ソース貯蔵部(3)において前記液体を充填または抽出し、かつ前記貯蔵部(3)内の圧力を制御する、ステーション(1)において、前記ガス移送回路(8)が、前記ソース貯蔵部(3)に収容された前記液体に由来するあらゆる汚染物質、特に化学種を、前記タンク(7)に移送される前記ガスから取り除くための吸着剤(16)またはセパレータを含むことを特徴とするステーション(1)。
IPC (3件):
F17C 5/06
, F17C 11/00
, F17C 13/00
FI (3件):
F17C5/06
, F17C11/00 A
, F17C13/00 301Z
Fターム (17件):
3E172AA02
, 3E172AA05
, 3E172AB01
, 3E172BB12
, 3E172BB13
, 3E172BB18
, 3E172BD03
, 3E172BD05
, 3E172CA20
, 3E172DA90
, 3E172EA02
, 3E172EA12
, 3E172EA35
, 3E172EA51
, 3E172EB02
, 3E172EB20
, 3E172FA30
引用特許:
出願人引用 (3件)
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特許第8671997号
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水素ステーション
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-201972
出願人:株式会社神戸製鋼所
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タンクに加圧ガスを充填する方法及びデバイス
公報種別:公表公報
出願番号:特願2008-532832
出願人:レール・リキード-ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
審査官引用 (3件)
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特許第8671997号
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水素ステーション
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-201972
出願人:株式会社神戸製鋼所
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タンクに加圧ガスを充填する方法及びデバイス
公報種別:公表公報
出願番号:特願2008-532832
出願人:レール・リキード-ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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