特許
J-GLOBAL ID：201803007971212942

ガス混合装置および基板処理装置

発明者：
山下 潤

山下 潤 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  三井田 友昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-121947
公開番号（公開出願番号）：特開2017-226863
出願日： 2016年06月20日
公開日（公表日）： 2017年12月28日
要約：
【課題】複数種のガスを混合するにあたって、ガスを均一に混合する技術を提供すること。【解決手段】上面が塞がれた円筒部40の底面中央部にガス流出路41を設け、円筒部40の中心に対して回転対称となる複数のガス流案内壁42A〜42Cをガス流出路41の開口縁に沿って間隔を置いて配置している。またガス流案内壁42A〜42Cの周方向の一方の端部を円筒部40の中心部寄りに屈曲している。そしてガス流案内壁42A〜42Cと、円筒部40の内周面との間におけるガス流案内壁42A〜42C周方向の他方寄りの位置に第1〜第3のガス流入管45A〜45Cを接続している。第1〜第3のガス流入管45A〜45Cから供給されたガスは、ガス流案内壁42A〜42Cの外周面に沿って流れ、周方向の一方側にあるガス流案内壁42A〜42Cの内周面に沿って流れる旋回流となり、ガス流出路41にて混合される。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
複数種のガスを混合するためのガス混合装置において、 上面が塞がれた円筒部と、 前記円筒部の底面の中央部に開口し、下方に伸びるガス流出路と、 前記ガス流出路における前記底面の開口縁に沿って周方向に互いに間隔を置いて配置されると共に前記円筒部の中心に対して回転対称に設けられ、前記上面に向かって突出した複数のガス流案内壁と、 前記ガス流案内壁と円筒部の内周面との間に設けられ、混合すべきガスが流入するガス流入部と、 前記円筒部の周方向において時計回り及び反時計回りの一方で見たときに、当該一方の方向を向いた側を前方と定義すると、前記ガス流案内壁は、円筒部の内周面とガス流案内壁との間に流入したガスを当該ガス流案内壁の外周面に沿って前記ガス流入部に案内し、これにより旋回流を形成するように、前方側に向かうにつれて前記円筒部の中心部寄りに屈曲していることを特徴とするガス混合装置。
IPC (2件)：
C23C 16/455 ,  H01L 21/31
FI (2件)：
C23C16/455 ,  H01L21/31 B
Fターム (29件)：
4K030AA03 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA18 ,  4K030BA38 ,  4K030BA46 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA01 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030HA01 ,  4K030KA45 ,  4K030LA15 ,  5F045AA15 ,  5F045AC03 ,  5F045AC11 ,  5F045AC12 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EC09 ,  5F045EE05 ,  5F045EE19 ,  5F045EF05 ,  5F045EK07
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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