特許

J-GLOBAL ID：201803008007338771

シャッターアセンブリを有するイオン源及びそれを備えるイオン注入装置

発明者： ジェフリー チャールズ ブラニク ,  ウィリアム ティー ウィーバー
出願人/特許権者： ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド
代理人 (3件)： 杉村 憲司 ,  片岡 憲一郎 ,  鈴木 麻菜美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-536957
特許番号：特許第6243916号
出願日： 2013年10月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 アークチャンバを画定するアークチャンバ筐体であって、該アークチャンバ筺体は固定位置に引出しプレートを有し、該引出しプレートは複数の引出し開口を画成する、アークチャンバ筺体と、 前記引出しプレートに近接する前記アークチャンバの外側に位置付けられ、ある期間、前記複数の引出し開口のうちの1つの少なくとも一部を遮断するように構成されたシャッターアセンブリと、 を備え、 前記シャッターアセンブリは、シャッター開口を画定する単一の汎用シャッタープレートと、該単一の汎用シャッタープレートを前記引出しプレートに対して第1の位置まで移動させて、第1の期間、前記複数の引出し開口のうちの第1の引出し開口から、前記複数の引出し開口のうちの残りの引出し開口を遮断しながら、第1のイオンビームを引出せるように構成したアクチュエータと、を備え、 前記アクチュエータはさらに、前記単一の汎用シャッタープレートを前記引出しプレートに対して第2の位置まで移動させて、第2の期間、前記複数の引出し開口のうちの第2の引出し開口から、前記複数の引出し開口のうちの残りの引出し開口を遮断しながら、第2のイオンビームを引出せるように構成される、イオン源。

IPC (4件)：

H01J 27/02 ( 200 6.01) ,  H01J 37/08 ( 200 6.01) ,  H01J 37/317 ( 200 6.01) ,  H01L 21/265 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01J 27/02 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317 Z ,  H01L 21/265 603 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 荷電粒子照射装置及び荷電粒子制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-320764   出願人：株式会社昭和真空