特許
J-GLOBAL ID：201803008424975431
下地剤、相分離構造を含む構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-153870
公開番号（公開出願番号）：特開2015-025034
特許番号：特許第6255182号
出願日： 2013年07月24日
公開日（公表日）： 2015年02月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基板上に形成された、ブロックPAとブロックPBとを有するブロックコポリマーを含む層を、ブロックPAとブロックPBとに相分離させるために用いられる下地剤であって、
前記ブロックPBは、アクリル酸エステル又はα置換アクリル酸エステルから誘導される構成単位のブロックであり、
前記ブロックPAは、かご型シルセスキオキサン構造含有構成単位のブロックであり、
前記下地剤は樹脂成分を含有し、該樹脂成分が、
下記一般式(ba0-1)で表される構成単位、並びに、カルボキシ基、水酸基、シアノ基、アジド基、アミノ基、トリアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、及びモノアルコキシシリル基からなる群から選択される1種以上の置換基を有する構成単位(ba0-3)を含むことを特徴とする下地剤。
[式(ba0-1)中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基であり、R1は炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であり、nは1〜5の整数である。]
IPC (6件)：
C09D 125/16 ( 200 6.01)
, C08F 20/12 ( 200 6.01)
, C08F 12/04 ( 200 6.01)
, C09D 133/04 ( 200 6.01)
, B32B 27/00 ( 200 6.01)
, B32B 27/30 ( 200 6.01)
C09D 125/16
, C08F 20/12
, C08F 12/04
, C09D 133/04
, B32B 27/00 101
, B32B 27/30 B
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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