特許
J-GLOBAL ID:201803008537274022

基板作業装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宮園 博一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-176805
公開番号(公開出願番号):特開2018-041914
出願日: 2016年09月09日
公開日(公表日): 2018年03月15日
要約:
【課題】基板全体の反り状態を取得する作業の作業時間を短縮して、生産性を向上させることが可能な基板作業装置を提供する。【解決手段】この基板P作業装置100は、部品Eが実装される基板Pにおいて、複数の測定点B2の各々における基板Pの高さ位置を測定する高さ位置測定部8と、基板Pに付された高さ位置取得用途とは異なる用途を有する複数のマークMの各々を撮像するマーク撮像部7と、高さ位置測定部8による複数の測定点B2の測定結果に基づいて取得される、複数の測定点B2の各々の位置における基板Pの高さ位置と、マーク撮像部7による複数のマークMの撮像画像に基づいて取得される、複数のマークMの各々の位置における基板Pの高さ位置とに基づいて、基板P全体の反り状態を取得する制御部9と、を備える。【選択図】図3
請求項(抜粋):
部品が実装される基板において、複数の測定点の各々における前記基板の高さ位置を測定する高さ位置測定部と、 前記基板に付された高さ位置取得用途とは異なる用途を有する複数のマークの各々を撮像するマーク撮像部と、 前記高さ位置測定部による前記複数の測定点の測定結果に基づいて取得される、前記複数の測定点の各々の位置における前記基板の高さ位置と、前記マーク撮像部による前記複数のマークの撮像画像に基づいて取得される、前記複数のマークの各々の位置における前記基板の高さ位置とに基づいて、前記基板全体の反り状態を取得する制御部と、を備える、基板作業装置。
IPC (2件):
H05K 13/08 ,  H05K 13/04
FI (2件):
H05K13/08 Q ,  H05K13/04 B
Fターム (15件):
5E353BB03 ,  5E353BC01 ,  5E353CC03 ,  5E353CC04 ,  5E353EE02 ,  5E353EE13 ,  5E353EE53 ,  5E353GG01 ,  5E353HH11 ,  5E353HH61 ,  5E353JJ44 ,  5E353KK01 ,  5E353KK03 ,  5E353KK11 ,  5E353QQ01
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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