感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：天野一規
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016089010
公開番号（公開出願番号）：WO2017-130629
出願日： 2016年12月27日
公開日（公表日）： 2017年08月03日
要約：

本発明は、下記式(1)で表される第1化合物と、酸解離性基を有する第1重合体と、上記第1化合物以外の感放射線性酸発生体とを含有し、上記感放射線酸発生体がオニウム塩化合物を含む感放射線性樹脂組成物である。上記式(1)中、nは、2又は3である。Lは、単結合又はn価の有機基であって、複数あるカルボキシレート基同士を連結する連結基のうち結合数が最小となる連結基に含まれる原子数は、0〜10である。但し、Lが単結合の時、nは2である。mは、1又は2である。但し、nが2の時、mは1である。Y+は、1価の感放射線性オニウムカチオンである。

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される第1化合物と、酸解離性基を有する第1重合体と、上記第1化合物以外の感放射線性酸発生体とを含有し、上記感放射線性酸発生体がオニウム塩化合物を含む感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , G03F 7/038 , G03F 7/20

FI (5件)：

G03F7/004 503A , G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , G03F7/20 521

Fターム (58件)：

2H197AA06 , 2H197AA09 , 2H197AA12 , 2H197AA24 , 2H197BA17 , 2H197CA06 , 2H197CA08 , 2H197CA09 , 2H197CE01 , 2H197CE10 , 2H197DB11 , 2H197HA03 , 2H197JA22 , 2H197JA24 , 2H225AF24P , 2H225AF33P , 2H225AF35P , 2H225AF36P , 2H225AF53P , 2H225AF54P , 2H225AF66P , 2H225AF67P , 2H225AF68P , 2H225AF71P , 2H225AF73P , 2H225AF75N , 2H225AF85P , 2H225AF99P , 2H225AH03 , 2H225AH14 , 2H225AH15 , 2H225AH16 , 2H225AH17 , 2H225AH19 , 2H225AH33 , 2H225AH36 , 2H225AH38 , 2H225AH41 , 2H225AH50 , 2H225AJ13 , 2H225AJ48 , 2H225AJ53 , 2H225AJ55 , 2H225AJ56 , 2H225AJ58 , 2H225AJ59 , 2H225AN39P , 2H225AN42P , 2H225AN54P , 2H225BA02P , 2H225BA26P , 2H225CA12 , 2H225CB10 , 2H225CB18 , 2H225CC01 , 2H225CC03 , 2H225CC15 , 2H225CD05

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