特許
J-GLOBAL ID：201803009157508787

基板処理装置

発明者：
加藤 正紀

加藤 正紀 について

, 
木内 徹

木内 徹 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 特許業務法人酒井国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-088288
公開番号（公開出願番号）：特開2018-142005
出願日： 2018年05月01日
公開日（公表日）： 2018年09月13日
要約：
【課題】演算負荷を抑制しつつ、精度よく円筒部材の位置を捉えて、円筒部材の曲面にある被処理物体に処理を施すことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置は、回転ドラムの外周面のうちで、シート基板が外周面に接触し始める進入領域と外周面から外れる離脱領域との間に設定される第1の特定位置において、シート基板にパターンを形成するパターン形成部と、回転ドラムの中心線の方向の端部側に中心線と同軸に固定されると共に、回転ドラムの外周面の直径とほぼ一致した直径を有する外周面の周方向に沿って環状に目盛が形成されたスケール円盤と、スケール円盤の外周面に形成された目盛と対向するように配置されると共に、中心線からみて第1の特定位置とほぼ同じ方位に配置されて、目盛の周方向の位置変化を逐次計測する第1の読取機構と、を備える。【選択図】図10
請求項（抜粋）：
長尺のシート基板上にデバイス製造の為のパターンを形成する基板処理装置であって、 所定の中心線から一定半径で湾曲した円筒状の外周面を有し、前記シート基板の一部分が前記外周面に沿って長尺方向に支持された状態で前記中心線の回りに回転して、前記シート基板を前記長尺方向に搬送する回転ドラムと、 前記回転ドラムの外周面のうちで、前記シート基板が前記外周面に接触し始める進入領域と前記外周面から外れる離脱領域との間に設定される第1の特定位置において、前記シート基板に前記パターンを形成するパターン形成部と、 前記回転ドラムの前記中心線の方向の端部側に前記中心線と同軸に固定されると共に、前記回転ドラムの外周面の直径とほぼ一致した直径を有する外周面の周方向に沿って環状に目盛が形成されたスケール円盤と、 前記スケール円盤の外周面に形成された前記目盛と対向するように配置されると共に、前記中心線からみて前記第1の特定位置とほぼ同じ方位に配置されて、前記目盛の前記周方向の位置変化を逐次計測する第1の読取機構と、 を備えた基板処理装置。
IPC (2件)：
G03F 7/24 ,  H01L 21/68
FI (2件)：
G03F7/24 Z ,  H01L21/68 F
Fターム (48件)：
2H197AA04 ,  2H197AA09 ,  2H197AA29 ,  2H197AA41 ,  2H197CA01 ,  2H197CA02 ,  2H197CA03 ,  2H197CA05 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CC01 ,  2H197CC05 ,  2H197CC11 ,  2H197CD30 ,  2H197DC06 ,  2H197DC13 ,  2H197DC18 ,  2H197EA18 ,  2H197EB16 ,  2H197HA04 ,  5F131AA03 ,  5F131AA10 ,  5F131AA13 ,  5F131AA21 ,  5F131AA23 ,  5F131AA33 ,  5F131BA03 ,  5F131BA13 ,  5F131CA32 ,  5F131DA03 ,  5F131DA20 ,  5F131DA68 ,  5F131DC30 ,  5F131EA02 ,  5F131EA14 ,  5F131EA22 ,  5F131EA24 ,  5F131EB78 ,  5F131EB79 ,  5F131FA17 ,  5F131FA32 ,  5F131KA12 ,  5F131KA14 ,  5F131KA44 ,  5F131KA72 ,  5F131KB07 ,  5F131KB12 ,  5F131KB32
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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