特許
J-GLOBAL ID：201803009541733917
システム的欠陥フィルターによるレチクル欠陥検査
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-011749
公開番号（公開出願番号）：特開2018-084587
出願日： 2018年01月26日
公開日（公表日）： 2018年05月31日
要約：
【課題】フォトリソグラフィレチクルを検査するための方法および装置を提供する。【解決手段】欠陥データのストリームがレチクル検査システムから受け取られ、欠陥データは、レチクルの複数の異なる部分に関して検出された複数の欠陥を識別する。レチクルが検査を合格するかどうかを判定するために欠陥データを再検討する前、かつ欠陥データのストリームが続けて受け取られるにつれ、欠陥のいくつかは最も新しく受け取られた他の1つ以上の欠陥と自動的にグループ分けされ、実質的に一致する欠陥のグループを形成する。レチクルが検査を合格するかどうかを判定するために欠陥データを再検討する前、かつレチクルに関する欠陥データのすべてが受け取られた後、所定のしきい値より高い数を有する、欠陥のグループのうちの1つ以上が欠陥データから自動的にフィルタリングされ、フィルタリングされた欠陥データを形成する。【選択図】図1A
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィレチクルを検査する方法であって、
レチクル検査システムから欠陥データのストリームを受け取ることであって、欠陥データはレチクルの複数の異なる部分に関して検出された複数の欠陥を識別し、
レチクルが検査を合格するかどうかを判定するために欠陥データを再検討する前、かつ欠陥データのストリームが継続して受け取られるにつれ、欠陥のいくつかを1つ以上の最も新しく受け取られた他の欠陥と自動的にグループ分けして、実質的に一致する欠陥のグループを形成することと、
レチクルが検査を合格するかどうかを判定するために欠陥データを再検討する前、かつレチクルに関するすべての欠陥データが受け取られた後に、欠陥データから所定のしきい値より高い数を有する欠陥のグループのうちの1つ以上を自動的にフィルタリングして、フィルタリングされた欠陥データを形成することと、
フィルタリングされた欠陥データを再検討ステーションに提供してレチクルが合格するかどうかを判定することと、を含み、
欠陥データは一度に1つの欠陥像を受け取られ、自動的グループ分けが、
各欠陥像が受け取られるにつれ、当該欠陥像が、存在する場合の既存の種グループと一致するかどうかを判定し、当該欠陥像を当該一致する既存の種グループに加え、そうでなければ、当該欠陥像を含む新しい種グループを形成することによって達成され、
存在する場合に一致が見つかるまで、当該欠陥像を一度に1つずつ複数の種グループと比較することは、最初に当該欠陥像が、前記種グループの1つと実質的に一致する形状を有するかどうかを判定し、実質的に一致する形状が存在する場合のみ、当該欠陥像を、実質的に一致する形状を有する種グループと画素ごとに比較することによって達成され、
画素ごとの比較が2×2画素差未満に帰結したときに、当該欠陥像が前種グループのうちの特定の1つとグループ分けされると判定される、方法。
IPC (4件)：
G01N 21/956
, G03F 1/84
, G03F 1/32
, G03F 1/30
G01N21/956 A
, G03F1/84
, G03F1/32
, G03F1/30
2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051AC21
, 2G051CA03
, 2G051EA14
, 2G051EB01
, 2G051EC01
, 2H195BB08
, 2H195BB10
, 2H195BC05
, 2H195BC27
, 2H195BD04
, 2H195BD11
, 2H195BD13
, 2H195BD17
, 2H195BD25
, 2H195BD26
, 2H195BD27
, 2H195BD28
