特許
J-GLOBAL ID:201803009840228870
直接チル鋳造のためのプロセスおよび装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
山本 秀策
, 森下 夏樹
, 飯田 貴敏
, 石川 大輔
, 山本 健策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-131449
公開番号(公開出願番号):特開2018-158386
出願日: 2018年07月11日
公開日(公表日): 2018年10月11日
要約:
【課題】直接チル鋳造のための好適なプロセスおよび装置を提供すること。【解決手段】融液含有容器を含む少なくとも1つの炉と、少なくとも1つの炉に結合され、かつ、溶融金属を少なくとも1つの炉から受け取るように動作可能である中間鋳造生成物ステーションであって、その中間鋳造生成物ステーションは、鋳造ピットと、鋳造ピットに配置された少なくとも1つの移動可能プラテンと、鋳造ピットの少なくとも上部周縁の周囲の排出ポートのアレイと、鋳造ピットの少なくとも上部周縁の周囲のガス導入ポートのアレイとを含む、中間鋳造生成物ステーションと、不活性ガスをガス導入ポートのアレイに供給するように動作可能な不活性ガス源とを備えるシステム。【選択図】図1
請求項(抜粋):
本明細書に記載の発明。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (8件):
4E004KA01
, 4E004MC11
, 4E004NA02
, 4E004NB04
, 4E004NC08
, 4E004SB09
, 4E004SC07
, 4E004SD03
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