特許

J-GLOBAL ID：201803009946964223

反転パターン形成組成物、反転パターンの形成方法、および素子の形成方法

発明者： 王 暁 偉 ,  長 原 達 郎
出願人/特許権者： メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング
代理人 (6件)： 永井 浩之 ,  中村 行孝 ,  佐藤 泰和 ,  朝倉 悟 ,  前川 英明 ,  遠藤 逸子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-133502
公開番号（公開出願番号）：特開2018-005046
出願日： 2016年07月05日
公開日（公表日）： 2018年01月11日
要約：

【課題】レジストパターンへの影響が少ない水系の溶媒を用いた反転パターン形成組成物であって、塗布後の平坦性や、充填性が良好であり、エッチング耐性にすぐれた組成物の提供。さらには、それを用いたパターンの形成方法の提供。【解決手段】窒素含有基を有する繰り返し単位を含んでなるポリシロキサン化合物と、水を含んでなる溶媒とを含んでなる反転パターン形成組成物と、それを用いた微細パターン形成方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

以下の一般式(I)または(II):

IPC (3件)：

G03F 7/40 ,  H01L 21/027 ,  C08G 77/26

FI (3件)：

G03F7/40 511 ,  H01L21/30 570 ,  C08G77/26

Fターム (40件)：

2H196AA25 ,  2H196BA11 ,  2H196EA05 ,  2H196GA08 ,  2H196HA34 ,  2H196LA06 ,  4J246AA03 ,  4J246AB01 ,  4J246AB07 ,  4J246BA020 ,  4J246BA02X ,  4J246BA040 ,  4J246BA04X ,  4J246BA120 ,  4J246BA12X ,  4J246BA140 ,  4J246BA14X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246BB02X ,  4J246CA120 ,  4J246CA12X ,  4J246CA240 ,  4J246CA24X ,  4J246CA42X ,  4J246CA760 ,  4J246CA76X ,  4J246CA780 ,  4J246CA78X ,  4J246CA800 ,  4J246CA80X ,  4J246FA061 ,  4J246FA421 ,  4J246FB271 ,  4J246GA01 ,  4J246GA02 ,  4J246GB04 ,  4J246GD08 ,  4J246HA15 ,  5F146LA19