特許
J-GLOBAL ID：201803010804391593
ガラス基板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
城村 邦彦
, 熊野 剛
, 友廣 真一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-223253
公開番号（公開出願番号）：特開2018-080081
出願日： 2016年11月16日
公開日（公表日）： 2018年05月24日
要約：
【課題】 ガラス基板を平置き姿勢で搬送しつつ、処理ガスによりガラス基板の下面にエッチング処理を施すにあたり、その確実な実行を可能とすること。【解決手段】 対向させて配置した本体部5aと天板部5bとの相互間に形成される処理空間13を通過するようにガラス基板2を平置き姿勢で搬送方向に搬送しつつ、本体部5aに備わった給気口14から処理空間13に給気され、且つ、本体部5aにおける搬送方向の上流側端部および下流側端部の各々に備わった排気口15により処理空間13から排気される処理ガス4を用いて、ガラス基板2の下面2aにエッチング処理を施す工程を含んだガラス基板の製造方法であって、搬送方向に沿った距離について、上流側端部の排気口15と最上流側の給気口14との相互間距離D1に比べて、下流側端部の排気口15と最下流側の給気口14との相互間距離D2を長くした。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
対向させて配置した上部構成体と下部構成体との相互間に形成される処理空間を通過するようにガラス基板を平置き姿勢で搬送方向に搬送しつつ、前記下部構成体に備わった給気口から前記処理空間に給気され、且つ、前記下部構成体における前記搬送方向の上流側端部および下流側端部の各々に備わった排気口により前記処理空間から排気される処理ガスを用いて、前記ガラス基板の下面にエッチング処理を施す工程を含んだガラス基板の製造方法であって、
前記搬送方向に沿った距離について、前記上流側端部の排気口と最上流側の前記給気口との相互間距離に比べて、前記下流側端部の排気口と最下流側の前記給気口との相互間距離を長くしたことを特徴とするガラス基板の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C03C15/00 C
, G02F1/1333 500
2H088FA17
, 2H088FA19
, 2H088FA30
, 2H088HA01
, 2H190JB02
, 2H190JC01
, 2H190JC07
, 2H190JD14
, 4G059AA08
, 4G059AC01
, 4G059BB01
, 4G059BB14
