薄膜の製造方法、薄膜材料の製造方法、垂直磁気記録層、複層膜基板及び磁気記録装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：杉浦正知 , 杉浦拓真
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016004909
公開番号（公開出願番号）：WO2017-085933
出願日： 2016年11月17日
公開日（公表日）： 2017年05月26日
要約：

強磁性体、フェリ磁性体、常磁性体及び反強磁性体のうちの少なくとも1種の材料を用いて薄膜を形成する工程、及び薄膜の形成工程と同時に又はその後に、少なくとも1種の材料に交番電磁場照射を行う工程を含む、薄膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

強磁性体、フェリ磁性体、常磁性体及び反強磁性体のうちの少なくとも1種の材料を用いて薄膜を形成する工程と、前記薄膜の形成工程と同時に又はその後に、前記少なくとも1種の材料に交番電磁場照射を行う工程とを含む薄膜の製造方法。

IPC (8件)：

C23C 14/14 , C23C 14/06 , C23C 14/58 , C23C 14/08 , G11B 5/64 , G11B 5/667 , G11B 5/738 , G11B 5/852

FI (8件)：

C23C14/14 F , C23C14/06 T , C23C14/58 C , C23C14/08 N , G11B5/64 , G11B5/667 , G11B5/738 , G11B5/852 A

Fターム (33件)：

4K029AA08 , 4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA24 , 4K029BA25 , 4K029BA43 , 4K029BA46 , 4K029BA49 , 4K029BB02 , 4K029BB08 , 4K029BB09 , 4K029BC06 , 4K029BD11 , 4K029CA01 , 4K029CA05 , 4K029EA09 , 4K029GA00 , 5D006BB05 , 5D006BB07 , 5D006BB08 , 5D006CA03 , 5D006CA05 , 5D006CA06 , 5D006DA03 , 5D006DA08 , 5D006EA03 , 5D112AA04 , 5D112AA05 , 5D112BB02 , 5D112BB05 , 5D112BB06 , 5D112DD03 , 5D112DD10

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