特許
J-GLOBAL ID:201803011211208241
フレキシブルデバイス用基板およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人平木国際特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-257541
公開番号(公開出願番号):特開2014-107053
特許番号:特許第6286821号
出願日: 2012年11月26日
公開日(公表日): 2014年06月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】 金属基材と、
該金属基材の表面に形成されたNiめっき層と、
該Niめっき層の表面に電気絶縁性を有するビスマス系ガラスが層状に形成されたガラス層と、
前記Niめっき層と前記ガラス層との間に形成された、前記Niめっき層の表面の酸化物成分と前記ビスマス系ガラスのガラス成分との反応成分を有する密着層と、
を有することを特徴とするフレキシブルデバイス用基板。
IPC (4件):
H05B 33/02 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, C25D 5/50 ( 200 6.01)
, C25D 7/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
H05B 33/02
, H05B 33/14 A
, C25D 5/50
, C25D 7/00 G
引用特許: