特許

J-GLOBAL ID：201803011307408489

成膜システム、磁性体部及び膜の製造方法

発明者： 河野 貴志 ,  佐藤 亨 ,  竹見 崇
出願人/特許権者： キヤノントッキ株式会社
代理人 (2件)： 吉井 剛 ,  吉井 雅栄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-216888
公開番号（公開出願番号）：特開2017-101322
特許番号：特許第6298138号
出願日： 2016年11月07日
公開日（公表日）： 2017年06月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 開口を有するマスクを、基板の前記マスクとは反対側に配置したマグネットで基板側に引寄せた状態で前記基板に膜を形成する成膜システムであって、 前記マグネットと前記基板との間に、前記マスクの開口部に対応する領域における前記マグネットの磁力を前記マスクの非開口部に対応する領域における前記マグネットの磁力よりも小さくする磁性体部を設けることを特徴とする成膜システム。

IPC (2件)：

C23C 14/50 ( 200 6.01) ,  C23C 14/04 ( 200 6.01)

FI (2件)：

C23C 14/50 F ,  C23C 14/04 A