特許
J-GLOBAL ID:201803011425824411
無線周波数皮膚処置のための装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
笛田 秀仙
, 五十嵐 貴裕
, 矢ヶ部 喜行
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-554270
公開番号(公開出願番号):特表2018-511436
出願日: 2016年04月21日
公開日(公表日): 2018年04月26日
要約:
本発明は、RF皮膚処置のための装置100であって、該装置の動作側15に配置され、ユーザの皮膚に接触するための第1の皮膚接触面を持つ、活性電極1を有し、該第1の皮膚接触面は、2mm以下の最大断面寸法を持つ装置に関する。該装置は、該装置の動作側15に配置され、ユーザの皮膚に接触するための第2の皮膚接触面を持つ、リターン電極2を有し、該第2の皮膚接触面の面積は、該第1の皮膚接触面の面積よりも少なくとも5倍大きい。活性電極1とリターン電極2との間にRF処置電圧を供給し、それにより該活性電極の下の皮膚領域を加熱するよう構成されたRF生成器21が配置され、該RF処置電圧は、100mHz乃至3GHzの範囲内の周波数を持つ。当該範囲内のRF処置電圧の周波数を用いることにより、RF処置電圧を印加する結果として活性電極の下に形成される熱的損傷の深さが、かなり低い周波数で同等のRF処置電圧を用いたRF皮膚処置装置に比べて、かなり増大させられる。
請求項(抜粋):
無線周波数皮膚処置のための装置であって、
前記装置の動作側に配置され、ユーザの皮膚に接触するための第1の皮膚接触面を持つ、活性電極であって、前記第1の皮膚接触面は、2mm以下の最大断面寸法を持つ、活性電極と、
前記装置の前記動作側に配置され、ユーザの皮膚に接触するための第2の皮膚接触面を持つ、リターン電極であって、前記第2の皮膚接触面の面積は、前記第1の皮膚接触面の面積よりも少なくとも5倍大きい、リターン電極と、
前記活性電極と前記リターン電極との間に無線周波数処置電圧を供給し、それにより前記活性電極の下の皮膚領域を加熱するよう構成された無線周波数生成器と、
を有し、前記無線周波数処置電圧は、100mHz乃至3GHzの範囲内の周波数を持つことを特徴とする装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (5件):
4C053JJ21
, 4C160KK01
, 4C160KK13
, 4C160KK38
, 4C160MM22
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