特許
J-GLOBAL ID:201803011567229227
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
, 江口 昭彦
, 内藤 和彦
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-548302
公開番号(公開出願番号):特表2018-511081
出願日: 2016年02月22日
公開日(公表日): 2018年04月19日
要約:
リソグラフィ装置のための測定システムは、基準フレーム(RF)に柔軟に搭載されたサブフレーム(100)を備える。サブフレーム上に、例えばアライメントセンサ(AS)のような測定デバイスが搭載されている。サブフレームの軟性マウント(101)は、例えば100から200Hzの範囲内であるカットオフ周波数の低域フィルタとして作用することによって、例えば音響ノイズのような高周波外乱からアライメントセンサを隔離する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
基準フレームと、
前記基準フレームに対して移動可能であり、基板を保持するように構成された基板ステージと、
前記基準フレームに対して軟性マウントを介して結合されたサブフレームと、
基板の属性を検知するように構成された測定デバイスと、を備え、
前記測定デバイスは、前記サブフレーム上に搭載され、
前記軟性マウントは、前記測定デバイスの動作に対する前記基準フレームにおける振動の効果を軽減するように構成されている、
リソグラフィ装置。
IPC (3件):
G03F 7/20
, G03F 9/00
, H01L 21/68
FI (5件):
G03F7/20 501
, G03F7/20 521
, G03F9/00 H
, G03F9/00 Z
, H01L21/68 F
Fターム (53件):
2H197AA09
, 2H197AA12
, 2H197BA11
, 2H197CA03
, 2H197CA06
, 2H197CA10
, 2H197CB01
, 2H197CC02
, 2H197CC03
, 2H197CD12
, 2H197CD13
, 2H197CD43
, 2H197DB16
, 2H197DB17
, 2H197DB34
, 2H197DC05
, 2H197EA01
, 2H197EA04
, 2H197EA05
, 2H197GA01
, 2H197HA03
, 2H197HA04
, 2H197HA05
, 2H197HA10
, 2H197JA09
, 5F131AA02
, 5F131BA13
, 5F131BA37
, 5F131CA02
, 5F131CA18
, 5F131CA32
, 5F131CA69
, 5F131DA09
, 5F131EA02
, 5F131EA06
, 5F131EA16
, 5F131EA19
, 5F131EA22
, 5F131EA27
, 5F131EB01
, 5F131EB11
, 5F131EB31
, 5F131FA17
, 5F131KA16
, 5F131KA40
, 5F131KA44
, 5F131KA47
, 5F131KA63
, 5F131KA72
, 5F131KB07
, 5F131KB12
, 5F131KB38
, 5F131KB53
引用特許:
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