特許

J-GLOBAL ID：201803011584940740

細胞培養培地、並びにこれを用いた細胞培養装置及び細胞培養方法

発明者： 渋谷 啓介 ,  丸山 優史 ,  近藤 健之
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 特許業務法人磯野国際特許商標事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-228559
公開番号（公開出願番号）：特開2018-082664
出願日： 2016年11月25日
公開日（公表日）： 2018年05月31日
要約：

【課題】本発明は、細胞培養により得られる有用物質の製造コストを従来よりも低減することができる細胞培養装置を提供する。【解決手段】本発明の細胞培養装置1は、培地成分の少なくとも1種が、刺激応答性高分子との結合体で構成されている細胞培養培地を貯留して細胞を培養する培養槽2と、前記結合体に所定の刺激を付与して前記刺激応答性高分子に所定の応答変化を生じさせる刺激付与機構4と、前記応答変化によって前記刺激応答性高分子に現れる性状に基づいて前記結合体を前記細胞培養培地に留めて前記結合体を除く他の前記培地成分のうちの少なくとも一部を前記細胞培養培地から分離する分離機構5と、を備えることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

培地成分の少なくとも1種が、刺激応答性高分子との結合体で構成されていることを特徴とする細胞培養培地。

IPC (2件)：

C12N 5/00 ,  C12M 1/00

FI (2件)：

C12N5/00 ,  C12M1/00 C

Fターム (15件)：

4B029AA02 ,  4B029BB11 ,  4B029CC01 ,  4B029DA10 ,  4B029GB10 ,  4B065AA90X ,  4B065BB34 ,  4B065BB40 ,  4B065BC02 ,  4B065BC03 ,  4H045AA30 ,  4H045CA40 ,  4H045DA20 ,  4H045DA21 ,  4H045EA60