特許

J-GLOBAL ID：201803011801581061

レジスト下層膜形成組成物用添加剤及び該添加剤を含むレジスト下層膜形成組成物

発明者： 西田 登喜雄 ,  坂本 力丸
出願人/特許権者： 日産化学株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人はなぶさ特許商標事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016083116
公開番号（公開出願番号）：WO2017-086213
出願日： 2016年11月08日
公開日（公表日）： 2017年05月26日
要約：

【課題】新規なレジスト下層膜形成組成物用添加剤、及び当該添加剤を含むレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】下記式(1)乃至式(3)で表される構造単位を有する共重合体を含むレジスト下層膜形成組成物用添加剤。前記添加剤、前記共重合体とは異なる樹脂、有機酸、架橋剤及び溶剤を含み、前記共重合体の含有量は前記樹脂100質量部に対し3質量部乃至40質量部である、リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。【化1】(式中、R1はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素原子数1乃至3のアルキレン基を表し、Aは保護基を表し、R3は4員環乃至7員環のラクトン骨格、アダマンタン骨格、トリシクロデカン骨格又はノルボルナン骨格を有する有機基を表し、R4は少なくとも1つの水素原子がフルオロ基で置換され更に置換基として少なくとも1つのヒドロキシ基を有してもよい、炭素原子数1乃至12の直鎖状、分岐鎖状又は環状の有機基を表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)乃至式(3)で表される構造単位を有する共重合体を含むレジスト下層膜形成組成物用添加剤。

IPC (3件)：

G03F 7/11 ,  C08F 220/10 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

G03F7/11 503 ,  C08F220/10 ,  G03F7/20 521

Fターム (59件)：

2H197AA09 ,  2H197AA12 ,  2H197AA24 ,  2H197CA08 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CE01 ,  2H197CE10 ,  2H197GA01 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H225AE04N ,  2H225AF18N ,  2H225AF64N ,  2H225AM10N ,  2H225AM22N ,  2H225AM23N ,  2H225AM27N ,  2H225AM61N ,  2H225AM62N ,  2H225AM70N ,  2H225AM94N ,  2H225AM95N ,  2H225AN05N ,  2H225AN38N ,  2H225AN39N ,  2H225BA01N ,  2H225BA24N ,  2H225CA12 ,  2H225CB09 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL09Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA34P ,  4J100BA38P ,  4J100BA46P ,  4J100BA58Q ,  4J100BB18R ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53Q ,  4J100BC73P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA28 ,  4J100FA30 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38